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退火温度对Ge/SiO2多层膜的结构和光学性能的影响

彭洁 , 李子全 , 刘劲松 , 蒋明 , 许奇

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2014.09.006

采用磁控溅射技术在石英衬底上制备出(Ge/SiO2)15多层膜,并在不同温度下对其进行退火处理.XRD和Raman结果表明:溅射态的薄膜为非晶态,当退火温度为500℃时开始出现明显的结晶衍射峰,随后晶化率明显增大,当600℃后,薄膜的晶化率几乎不变.FESEM和小角度X射线衍射结果表明:溅射态薄膜的层与层之间存在明显的界面,具有良好的周期性,升高退火温度,晶粒尺寸增大,但仍保持周期性结构.薄膜的紫外可见光吸收光谱表明:随着退火温度的升高,吸收边发生红移,光学带隙从溅射态的1.86eV减小到600℃时的1.59eV.

关键词: Ge/SiO2多层薄膜 , 射频磁控溅射 , 退火温度 , UV-VIS光谱 , 小角度X射线衍射

Mo对A2B7型La-Mg-Ni贮氢电极合金相结构及电化学性能的影响

蒋明 , 李子全 , 刘劲松 , 彭洁 , 谢理明

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2014.09.017

采用X射线衍射技术(XRD)、电池程控测试仪和电化学工作站等技术手段,研究了少量Mo替换Ni对La0.75Mg0.25Ni3.xMox(x=0~0.5,原子分数/%,下同)贮氢电极合金相结构及电化学性能的影响.结果表明:La0.75 Mg0.25Ni3.5xMox合金具有多相结构,主相由Gd2 Nb型结构的La2 Ni7和CaCu5型结构的LaNi5构成,合金活化性能良好,经过4次充放电过程基本都能达到活化状态.当Mo的加入量达到0.3%时,合金中出现MoNi1,,且La2 Ni7和LaNi5的点阵参数随之增大;合金的高倍率放电(HRD)性能显著提高,HRDI-900mA愚由82.58%(x=0)增加到86.72%(x=0.5);循环稳定性能(S100)也得到较大改善,呈现先增加后降低的变化趋势,x=0.3时循环稳定性能最好,S100达到76.61%,但合金的最大放电比容量(Cmax)逐渐降低.

关键词: 贮氢电极合金 , Mo替换 , 相结构 , 电化学性能

固相回收SiCp/ZK60镁基复合材料的高温压缩变形行为?

孙明体 , 戚文军 , 王娟 , 黎小辉 , 李亚江 , 彭洁

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.22.033

在温度为360~450℃、应变率为0.001~1 s-1的变形条件下,采用 Gleeble-1500D热模拟机对固相回收 SiCp/ZK60镁基复合材料的高温压缩变形行为进行研究。结果表明:固相回收 SiCp/ZK60的流变应力随变形温度的升高而降低,随应变率的升高而升高,且随应变的增加,流动应力很快达到峰值,然后逐渐趋于稳定。固相回收SiCp/ZK60热压缩变形应力指数为3.348,变形激活能为64.97 kJ/mol,其高温压缩流变应力模型为?ε=4.69×104[sinh(0.051σ)]3.348 exp(-64790/(RT));本试验条件下,固相回收 SiCp/ZK60的流变应力模型可以用 Zener-Hol-lomon参数的双曲线函数形式进行描述。

关键词: 固相回收SiCp/ZK60 , 镁基复合材料 , 热压缩模拟 , 流变应力 , 本构模型

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