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低能O5+离子穿过H2靶后的电荷态分布

李永峰 , 赵永涛 , 程锐 , 彭海波 , 周贤明 , 李锦钰 , 虞洋 , 王兴 , 任洁茹 , 王瑜玉 , 雷瑜 , 孙渊博 , 刘世东

原子核物理评论 doi:10.11804/NuclPhysRev.31.02.229

实验测量了0.75 MeV的O5+离子穿过一定长度不同原子数密度H2靶后的电荷态分布；理论模拟了出射离子的平均电荷态以及达到平衡后的平均电荷态，得到了与实验吻合较好的结果。研究表明，随着靶原子数密度的增大，离子在碰撞过程中俘获电子的几率随之增加，平均电荷态降低；当靶原子数密度达到或超过1014 cm-3，入射离子俘获电子和被碰撞电离的两个作用过程达到平衡，出射离子的平衡平均电荷态约为1.2。

关键词: 玻尔速度能区 , 高电荷态离子 , 原子数密度 , 电荷态分布 , 平衡平均电荷态

电镀Ni-P和Ni-Sn-P合金的研究概况

王宏智 , 杨金爽 , 李剑 , 彭海波

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2008.04.004

综述了近几年电镀Ni-P和Ni-Sn-P合金镀层的研究概况,包括主盐、络合剂浓度以及温度、电流密度、pH、热处理等工艺条件对镀速、电流效率、镀层成分、性能等的影响,同时也讨论了镀层的耐蚀性能.最后介绍了电镀Ni-P和Ni-Sn-P合金镀层的应用及存在的问题

关键词: 电镀 , Ni-P合金 , Ni-Sn-P合金 , 耐蚀性

复合化学镀(Ni-Sn-P)-Si3N4镀层及其性能研究

刘锐 , 王宏智 , 彭海波 , 杨金爽

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2009.02.011

采用化学沉积的方法,在Ni-Sn-P合金基质上复合Si,N4粒子,获得(Ni-Sn-P)-Si3N4复合镀层.研究了镀液pH、温度、Si3N4微粒加入量以及搅拌速度等工艺条件对镀速的影响.对复合镀层表面形貌和结构进行了分析.测试了镀层的性能,发现随着镀层中Si3N4质量分数的增加,镀层的性能均按照一定的规律发生变化.当Si3N4的质量分数为最大值24.0%时,镀层硬度最高,耐磨性能最好.

关键词: 复合化学镀 , 镀速 , 硬度 , 耐磨性

化学镀Ni-Sn-P合金的研究进展

王宏智 , 彭海波 , 陈君 , 王津生

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.06.016

介绍了近年来国内外在化学镀Ni-Sn-P合金镀层方面的研究进展,探讨了镍盐含量、锡盐含量、还原剂含量、络合剂含量、温度和pH等因素对化学镀Ni-Sn-P合金的镀速及镀层质量的影响.分析了镀层的表面形貌、结构及性能,概述了化学镀Ni-Sn-P合金镀层的应用及目前所存在的问题.

关键词: 化学镀 , Ni-Sn-P合金 , 镀速 , 镀层质量

Ni-ZrO2复合镀层的结构表征

王宏智 , 宋振兴 , 彭海波 , 王津生

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2007.04.004

采用复合电沉积制备Ni-ZrO2复合层.采用X-射线衍射检测ZrO2的加入对镍镀层结构的影响,如衍射峰的强度、金属电沉积时晶粒的择优取向.测试表明,Ni和ZrO2各自在特定的角度分别出现其独特的衍射特征峰,互不干扰,镀层中ZrO2含量增高,衍射强度变强.ZrO2在镀层的掺杂,镀层的晶粒尺寸由29.29 nm降至21.78 nm,镀层晶粒细化.

关键词: 复合镀层 , 电沉积 , X-射线衍射

硼硅酸盐玻璃的电子辐照效应

段丙皇 , 陈亮 , 王铁山 , 彭海波 , 张根发 , 杨坤杰

原子核物理评论 doi:10.11804/NuclPhysRev.31.02.189

在高放废物长期地质处置过程中，作为第一层工程屏障的固化体玻璃会受到持续的电子辐照，研究其电子辐照效应对高放废物的长期安全处置具有重要的意义。在透射电子显微镜(TEM)上对硼硅酸盐玻璃样品进行原位电子辐照实验。在电子束的作用下，两种硼硅酸盐玻璃均很快发生相分离现象，这主要是由于电离作用导致Na的迁移或逃逸引起网络体结构重组的结果。引入简单的结构模型解释了两种不同组分硼硅酸盐玻璃相分离的不同，结果表明，相分离的不同与玻璃组分中Na成分的多少密切相关。

关键词: 硼硅酸盐玻璃 , 电子辐照 , 相分离 , 钠迁移 , 透射电子显微镜

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