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直流磁控溅射沉积含He钛膜的研究

施立群 , 金钦华 , 刘超卓 , 徐世林 , 周筑颖

原子核物理评论 doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2005.01.045

研究了用He/Ar混合溅射气体的直流磁控溅射制备钛膜中He的掺入现象.分析结果表明,大量的He原子(He/Ti原子比高达56%) 被均匀地引入到Ti膜中,He含量可由混合溅射气体的He分量精确控制.通过调节溅射参数,可实现样品中He的低损伤引入.研究还发现,溅射沉积的含氦Ti膜具有较高的He成泡剂量和高的固He能力,这可能是溅射沉积形成了纳米晶Ti膜所致.纳米晶Ti膜较粗晶材料具有很高浓度的He捕陷中心,使He泡密度增大而泡尺寸减小.随He引入量的增加,Ti膜的晶粒尺寸减小,He引起的晶体点阵参数和X射线衍射峰宽度增大,晶体的无序程度增加.

关键词: , 损伤 , , 钛膜 , 溅射沉积

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