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纳米光学金刚石薄膜的分析与改进

胡广 , 王林军 , 祝雪丰 , 刘建民 , 黄健 , 徐金勇 , 夏义本

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.05.010

由于极其优良的热学和光学性能,纳米金刚石薄膜极有可能应用于背投电视的激光光学窗口.文章通过在热丝辅助化学气相沉积法中采用偏压增强成核(BEN-HFCVD),成功地在(100)硅衬底上制得了适于作为光学窗口的高质量的光学级纳米金刚石薄膜,采用的偏压为-30 V.通过表征制备的纳米金刚石薄膜,发现它具有光滑的表面,表面均方根粗糙度(RMS)约为10 nm,并且对自支撑纳米金刚石薄膜进行透射光谱分析得到其透射率达到了50 %.

关键词: 纳米金刚石 , 光学性质 , 表面粗糙度 , 偏压增强成核-热丝辅助化学气相沉积法

EA-HFCVD 沉积纳米金刚石膜的光致发光分析

祝雪丰 , 王林军 , 胡广 , 刘健敏 , 黄健 , 徐金勇 , 夏义本

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.05.007

采用电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)在硅片上沉积出晶粒尺寸为30 nm的均匀金刚石膜.生长过程中,预先加6 A偏流生长1 h,然后在0.8 kPa条件下,无偏流生长3 h.光致发光谱中存在4个发光中心分别位于1.682 eV, 1,564 eV, 1,518 eV和1.512 eV的发光峰.1.682 eV处发光峰源于衬底硅原子掺杂于膜中引起的缺陷;其他发光峰源于金刚石晶格振动声子.光致发光强度越大对应的缺陷密度越大,从而降低了场发射域值电场强度,其关键可能源于金刚石膜电导型晶界.

关键词: 光致发光 , 纳米金刚石膜 , 电子辅助-热丝化学气相沉积

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