戚云娟
,
朱昌
,
梁海峰
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.05.005
采用反应磁控溅射法在k9玻璃基底上沉积ZrO2薄膜.用轮廓仪、椭圆偏振仪和分光光度计,分别测试薄膜的厚度、折射率、消光系数和透过率,研究了不同氧流量对薄膜沉积速率和光学特性的影响.结果表明:随着氧气流量增加到22～24 mL/min(标准状态下)时,沉积速率从6.8 nm/s下降到2.5 nm/s,并趋于稳定；在入射波长630 nm处,薄膜的折射率为1.95,消光系数小于10-5；在可见及近红外波段,薄膜平均透过率高于80％.
关键词:
ZrO2薄膜
,
反应磁控溅射
,
氧流量
,
光学特性
