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Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析

王凤平 , 王佩璇 , 方正知 , 崔明启 , 姜晓明 , 马宏骥

金属学报

用X射线衍射的动力学理论对磁控溅射法制备的Mo／SiO2多层膜低角X射线衍射谱进行拟合，定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度．同时，用Auger电子能谱证实了多层膜成分的周期性以及比较明晰的层界面随样品厚度的增加，界面粗糙度增加．

关键词: Mo／SiO_2多层膜 , magnetron sputtering , interfacial roughness , low angle X-ray diffraction , AES

六方Co_(2-3)C的形成

王坚 , 吴杏芳 , 陈训平 , 蔡军 , 柳百新 , 方正知

金属学报

将50keV碳离子注入纯Co金属膜中,在剂量为2.5×10~(17)/cm~2时,发现了六方结构碳化物。电子衍射结果表明晶格常数a=0.2685nm,c=0.4335nm。当剂量提高到5×10~(17)/cm~2时,六方衍射环仍然存在。而剂量提高到9×10~(17)/cm~2时,衍射环变成具有非晶特征的漫散晕。Auger谱数据表明,形成的六方相成份范围为Co_2-_3C。本文从固体Fermi能来解释Fe,Co和Ni的六方碳化物形成的变化;从能带理论解释热处理方法形成正交Co碳化物的原因。

关键词: 离子注入 , Co carbide;Fermi energy , band theory

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