庄筱磊
,
徐洪光
,
张积梅
,
何钧
,
施展
,
周刚
,
余峰
,
黄浩
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2006.05.021
从生产角度研究了基板表面的预处理工艺对OLED性能的影响,分别用UV Ozone、氧Plasma以及两者相结合的方式对基板进行表面处理,并按照生产工艺制作器件,从接触角、方阻以及光电特性等测试结果对各种表面处理的样品进行比较.结果表明以上处理都改善了器件性能,不同程度提高了器件的清洁度、亮度和发光效率,其中UV Ozone和氧Plasma结合的方式处理效果最为显著,器件在10 V时亮度达到79 920 cd/m2,比其他两种处理方式亮度提高约25 %.
关键词:
有机电致发光显示器
,
表面预处理
,
接触角
,
发光效率
陈晨
,
张瑞
,
王璇
,
曹运珠
,
白凤英
,
张晓溪
,
李光华
,
施展
,
邢永恒
应用化学
doi:10.3724/SP.J.1095.2013.20546
根据模拟钒卤代过氧化物酶(V-HPOs)活性中心的配位环境,设计并合成了2种新型过氧钒配合物:Na[VO(O2)2(C10H8N2)]·8H2O(1)和K3H[(VO)2 (O2)4(μ2-O)]·H2O(2),通过元素分析、红外光谱和紫外光谱对其进行了表征,并通过X射线单晶衍射方法确定了其结构.配合物1晶体属于三斜晶系,空间群:P-1,a=0.7213(2) nm,6=1.1269(4) nm,c=1.3728 (4) nm,α=68.349(4)°,β=89.178(4)°,γ=88.050(4)°,V=1.0365(6) nm3.配合物2的晶体属于单斜晶系,空间群:P21/c,a=0.67047 (12) nm,6 =0.99503(18) nm,c=1.5817(3) nm,α=γ=90°,β=93.739(2)°,V=1.0530(3) nm3.配合物1和2分别是五角双锥和八面体配位构型.通过催化溴化反应活性研究发现,2种配合物均可作为潜在的钒卤代过氧化物酶模拟物.
关键词:
钒卤代过氧化物酶
,
钒过氧配合物
,
晶体结构
,
催化活性
马云庆
,
赖三哩
,
杨水源
,
杨晶晶
,
施展
材料导报
采用电弧熔炼法制备了Fe81Ga19合金多晶样品,研究了不同热处理工艺对合金组织结构及磁致伸缩性能的影响.样品经过700℃、800℃和900℃保温后采用空冷、炉冷和淬火3种冷却方式.结果显示,经过不同热处理后样品的微观组织均为单相bcc结构,而磁致应变从34×10-8到94×10-6不等;当热处理温度为800℃时,淬火处理后可获得较好的磁致伸缩性能(88×10-6),而热处理温度较高(900℃)时,采用炉冷的方式可获得较好的磁致伸缩性能(94×10-6).推测热处理方式和晶体取向对Fe81Ga19合金磁致伸缩性能有较重要的影响.
关键词:
磁致伸缩
,
Fe81Ga19
,
热处理
刘宇恒
,
林元华
,
施展
,
南策文
,
沈志坚
稀有金属材料与工程
用溶胶-凝胶法和放电等离子烧结(SPS)制备了层片状结构的(Ca1-xKx)3Co4O4陶瓷,烧结块体相对密度可达97%～99%.XRD(X-ray Diffraction)和SEM(Scanning Electronic Microscope)分析结果表明当K的掺杂量x＜0.08时为单一的Ca3Co4O9相,SPS烧结可以使样品带有一定的织构取向.在室温至700℃的范围内测量了不同K掺杂量时样品电导率和Seeback系数,测试结果表明,当K的掺入量小于0.06时,随着掺入量的增加,可以显著提高样品的电导率(400℃～700℃)和Seebeck系数.其中,700℃时(K0.06Ca0.94)3Co4O9样品的功率因子P=4.43×10-4W·m.-1K-2,与Ca3Co4O9(P=3.51×10-4W.m.-1K-2)相比提高了26.2%,表明K掺杂是改善Ca3Co4O9高温热电性能的有效途径之一.
关键词:
Ca3Co4O9陶瓷
,
热电氧化物
,
SPS烧结
蔡宁
,
翟俊宜
,
施展
,
刘刚
,
林元华
,
南策文
稀有金属材料与工程
采用热压法制备出二层锆钛酸铅(PZT)/聚偏氟乙烯(PVDF)与1层Tb0.28Dy0 72Fe2(Terfenol-D)/PVDF 叠层结构的三元复合磁电材料,研究了不同PVDF含量f以及不同层厚比tP/L对样品的介电常数、介电损耗、电阻率、谐振频率以及磁电转换系数αE33,αE31的影响规律,结果显示PVDF的含量和层厚比都存在最佳值(最佳值出现在f=0.5,tP/L=2/7),并且在这个最佳值处,磁电转换系数达到最大.
关键词:
层状复合材料
,
磁电效应
,
谐振频率
施展
,
樊祥
,
程正东
,
朱斌
,
魏元
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2017.02.008
赝热光源是关联成像的常用光源,相较量子态的纠缠双光子光源,它更容易获得并用于关联实验.赝热光和纠缠双光子有一定的相似之处,尤其是在光场的统计特性上,这一点和关联计算密切相关.当量子场为相干态或其经典随机混合时,量子光场和经典光场在统计特性上完全相同,可采用零均值高斯态对赝热光场的非相敏传播过程进行完整描述.基于这一模型,建立了赝热光场的半经典探测理论,推导了参考光路和信号光路光电流的关联计算公式,对鬼成像的分辨率和对比度以及关联成像系统的视场进行了分析.
关键词:
量子光学
,
赝热光
,
关联成像
,
关联函数
