曲文超吴爱民吴占玲白亦真姜辛
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2010.00712
采用多靶磁控共溅射技术, 利用高纯度Al, Mg和B单质靶材为溅射源, 室温下在单晶Si(100)表面上成功制备了低摩擦系数的非晶态Al-Mg-B硬质薄膜. 通过改变Al/Mg混合靶体积配比及靶材溅射功率来调控薄膜成分, 最终制备的Al-Mg-B薄膜成分接近 AlMgB14相的元素成分比, 其Vickers硬度约为32 GPa. XRD及HR-TEM分析表明, 制备的薄膜均为非晶态. XPS测试表明薄膜内部存在B-B及Al-B单键; FTIR进一步测试表明, 在波数1100 cm-1处出现较为明显的振动吸收峰, 证明制备的薄膜中含有B12二十面体结构, 这也是薄膜具有超硬性的主要原因. 薄膜摩擦磨损测试表明薄膜摩擦系数在0.07左右.
关键词:
磁控溅射
,
Al-Mg-B film
,
hardness
,
B12 icosahedra structure
