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模板法交流电沉积铜纳米线阵列及其表征

张艳梅 , 胡勇 , 黄家强 , 王国庆 , 桂烨 , 王大福 , 揭晓华 , 曾鹏

电镀与涂饰

先通过二次阳极氧化法制备多孔阳极氧化铝膜模板,再采用交流电沉积法将Cu金属填入模板的纳米孔洞中得到铜纳米线阵列.分别采用扫描电镜、透射电镜和X射线衍射仪对Cu纳米线阵列的形貌和晶体结构进行表征.结果表明,多孔氧化铝模板的孔洞排布致密、均匀而有序.交流电沉积所得Cu纳米线为单晶结构,直径为60~90 nm,长度为0.5~4.0μm.

关键词: , 阳极氧化 , 模板 , 交流电沉积 , 铜纳米线阵列 , 微观结构

射频/直流磁控溅射316L不锈钢/陶瓷复合薄膜组织与性能的研究*

胡社军 , 温伟祥 , 曾鹏 , 吴起白 , 谢光荣 , 黄拿灿 , 胡显奇 , 盛钢 , 盛忠

材料导报

利用射频/直流磁控溅射法,制备了316L不锈钢/SiO2(Al2O3)复合膜,研究了薄膜的组织和形貌,测试了薄膜的显微硬度和耐磨性.结果表明,溅射316L不锈钢薄膜和316L/SiO2(Al2O3)复合薄膜都呈柱状晶结构,主要由Fe-Cr和γ-Fe相构成;溅射316L不锈钢薄膜在Fe-Cr(110)晶面出现明显的择优取向;由于射频溅射陶瓷的掺合,使316L不锈钢/陶瓷复合薄膜柱状晶细化,并出现二次柱状晶,在Fe-Cr(211)晶面出现明显的择优取向,尽管316L不锈钢/陶瓷复合膜的显微硬度相对于磁控溅射316L薄膜提高不大,但其抗磨损性能明显提高,以316L/Al2O3复合膜尤为显著.

关键词: , 射频/直流磁控溅射 , 不锈钢/陶瓷薄膜 , 组织 , 性能

一种化学还原镀金液复合配位剂的研究

肖忠良 , 卢意鹏 , 刘姣 , 曾鹏 , 周朝花 , 吴蓉 , 吴道新 , 曹忠

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.042

目的 研究由乙二胺四乙酸二钠(EDTA-2Na)、乙二胺四亚甲基膦钠(EDTMPS)和柠檬酸三铵(C6H5O7(NH4)3)组成的复合配位剂,在不同浓度及pH下,对金沉积速率、镀金液稳定性、金镀层结构及性能的影响.方法 用化学镀的方法在树脂基体上先预镀覆Cu-Ni-Pd金属层,然后制备金镀层.采用正交实验法,研究复合配位剂浓度及pH对金层沉积速率、镀金液稳定性、结合力、光亮度的影响.借助扫描电镜及能谱,分析不同优化组合镀液配方制备的镀层形貌及成分.结果 以镀金沉积速率为评价指标时的最优组合为A2C3D3B2,以镀液稳定性为评价指标时的最优组合为A2C2B3D2,以镀层结合力为评价指标时的最优组合为A2D2B2C2,以镀层光亮度为评价指标时的最优组合为A3C1D2B2.将4个单一评价指标的最优组合重复实验,实验结果表明,当EDTA-2Na为15 g/L、EDTMPS为3 g/L、C6H5O7(NH4)3为30 g/L、pH为6.0时,镀液稳定性最高,可达6 MTO;镀层沉积速率最快,可达0.0066μm/min;镀层结合力可达5级,光亮度可达1级.结论 采用EDTA-2Na、EDTMPS和C6H5O7(NH4)3组成的复合配位剂,在适当的pH下能够提高镀层沉积速度及镀液稳定性,改善镀层表面形貌.

关键词: 化学还原镀金 , 复合配位剂 , 沉积速率 , 稳定性 , 结合力 , 光亮度

爆炸喷涂Al2O3陶瓷梯度涂层的组织与性能

卢国辉 , 曾鹏 , 黄惠平 , 王桂棠 , 谢光荣 , 潘振鹏 , 胡社军

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2000.04.009

用爆炸喷涂法制备了Al2O3与自熔性合金的陶瓷梯度涂层.结果表明,基体/Ni60/25%Al2O3+75%Ni60/50%Al2O3+50%Ni60/ Al2O3的陶瓷梯度涂层具有较好的结合力,较低的残余内应力及和缓的热应力.对粉末及涂层的XRD谱分析表明,爆炸喷涂的Al2O3陶瓷涂层结构为γ- Al2O3,而其粉末结构为α- Al2O3,这说明在爆炸喷涂中存在相变过程.爆炸喷涂Al2O3陶瓷梯度涂层适合于工作环境较恶劣的热障耐磨涂层.

关键词: 爆炸喷涂 , Al2O3陶瓷涂层 , 梯度涂层 , 显微结构 , 性能

材料吸收对含缺陷一维光子晶体带隙的影响

王磊 , 王孟杰 , 张凤祥 , 李松林 , 曾鹏 , 沈运兴 , 雷磊

兵器材料科学与工程

研究只有高、低折射率介质层存在吸收时,一维光子晶体带隙随不同吸收系数的变化.结果表明:当吸收系数较小时,光子晶体的带隙随吸收系数的增大而逐渐减小直至消失;当吸收系数较大时,光子晶体没有全向带隙的出现,缺陷几乎消失;同时透射谱和吸收谱都发生剧烈的变化,几乎没有光能通过该光子晶体.研究为一维光子晶体的设计和实际应用提供了有价值的参考.

关键词: 折射率 , 吸收系数 , 全向带隙 , 带隙率 , 透射率

芦竹修复收获物热解过程中重金属的稳定性

刘亚男 , 郭朝晖 , 孙阳 , 侍维 , 韩自玉 , 肖细元 , 曾鹏

中国有色金属学报(英文版) doi:10.1016/S1003-6326(17)60073-6

芦竹修复收获物的热解过程会造成重金属的二次污染,本文作者研究外加物料Al2O3、CaCO3、FeCl3和NaOH的添加对热解过程中重金属稳定性的影响.结果表明,当芦竹粉在外加5%Al2O3、250°C下热解2 h,37%As和97%Cd固定在芦竹生物炭中;在外加5%CaCO3、400°C下热解1 h,59%Pb固定在芦竹生物炭中.在芦竹热解最优条件下通过BCR法分析可知,Cd主要以残渣态存在,Pb和As主要以可氧化态存在.由XRD分析可知,As主要存在于Ca2As2O7中,Cd主要存在于Cd(AlCl4)2、CdPbO3或CdSO3中,Pb主要存在于Pb3O2SO4中.

关键词: 植物修复后芦竹 , 热解 , 生物炭 , 重金属 , 稳定

脉冲偏压对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响

曾鹏 , 胡社军 , 谢光荣 , 黄拿灿 , 吴起白

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2001.03.014

研究了脉冲偏压对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响.结果表明脉冲偏压幅值在500-1700V,脉宽比在1/25~2/5的范围内,沉积温度低于250℃时膜层组织主要由Ti2N和TiN相构成,随脉冲偏压幅值和脉宽比的增大,晶面的择尤沉积由Ti2N(200)向(002)转变,柱状晶生长程度减弱.膜层具有较高的显微硬度和耐磨性,但在过高的脉冲偏压和脉宽比的沉积条件下,膜层的性能有下降的趋势.

关键词: 脉冲偏压 , 真空电弧沉积 , TiN薄膜 , 组织性能

低能离子束轰击对非晶Ni-P薄膜组织与性能的影响

曾鹏 , 胡社军 , 谢光荣 , 黄拿灿 , 吴起白

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2001.08.004

用X-射线衍射仪(XRD)、俄歇电子能谱分析仪(AES)、电子探针(EPMA)、差示扫描量热仪(DSC)和超微显微硬度计研究了低能氮离子束对非晶Ni-P合金镀层进行轰击的晶化规律,分析了在低能氮离子束作用下的非晶薄膜的组织结构和显微硬度.结果表明,用能量为3.0~4.0 keV,束流为80~200 mA的低能氮离子束对非晶Ni-P镀层进行轰击,镀层中可以晶化析出Ni和Ni3P相,并在Ni(111)晶面上出现择优取向.随低能氮离子束的轰击能量和束流的增大,Ni-P非晶镀层中Ni和Ni3P的晶化温度下降,束流对晶化温度的影响比加速电压的影响大.载能粒子对非晶薄膜的作用,产生氮离子注入效应,使表层的含氮量增加.随束流的增加,显微硬度增加减缓,而随氮离子束加速电压增加,显微硬度增加明显,在4 000 V加速电压的氮离子束轰击下,显微硬度达到HV2 131,比一般退火晶化方法所得到的显微硬度显著提高.

关键词: 低能离子束轰击 , Ni-P非晶镀层 , 晶化 , 组织结构 , 显微硬度

多弧离子镀(Ti,W)xN合金涂层组织与性能

曾鹏 , 胡社军 , 谢光荣 , 黄拿灿 , 吴起白

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2000.09.010

采用Ti/W复合靶用多弧离子镀技术沉积了(Ti,W)xN合金涂层,并对该涂层的组织与性能进行了研究.结果表明,涂层组织致密,孔隙率极低,主要结构为(Ti,W)2N,并具有较高的显微硬度和抗氧化性.在沉积过程中存在着多元合金涂层与复合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关.

关键词: 多弧离子镀 , (Ti,W)xN涂层 , 组织性能 , 成分离析

离子束加速电压对真空电弧沉积Ti(C,N)涂层性能的影响

余东海 , 曾鹏 , 胡社军 , 汝强

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.04.002

利用等离子辅助真空电弧沉积技术分别在高速钢片和单晶硅片制备了Ti(C,N)涂层,通过X-射线衍射和扫描电镜研究了不同离子加速电压对单晶硅片上涂层结构和组织形貌的影响,并测定了高速钢片上涂层的显微硬度,同时进行了耐磨性实验.结果表明:涂层主要由TiN和Ti(C,N)组成;随着离子束加速电压的增大,涂层的沉积速度增大,Ti(C,N)的衍射峰不断宽化,晶格尺寸发生变化,但其表面形貌不受影响;当离子束加速电压为1 500 V时,涂层有较高的耐磨性和显微硬度;当离子束加速电压为2 500 V时,涂层的耐磨性和显微硬度都有所下降.

关键词: 离子束 , 真空电弧沉积 , Ti(C,N)涂层

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