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SiC单晶片化学机械研磨试验研究

王庆仓 , 张晓东 , 苏建修 , 祝伟彪 , 郗秦阳 , 朱鑫 , 裴圣华

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.04.025

目的:提高SiC单晶片的材料去除率,改善加工后的表面质量。方法进行研磨液试验,利用极差法得到研磨液的最优配比和研磨液成分中影响去除率的主次因素顺序;对主要影响因素进行单因素试验并考察对材料去除率的影响。结果研磨液的质量为50 g,最优配方为:助研剂、分散剂、增稠剂、润滑剂、磨料A、磨料B的质量分别为9,7,5,3,3,5 g,其余为调和剂,磨料A和磨料B的粒度均为W28。结论影响材料去除率的主要因素为磨料粒度,粒度越大,材料去除率越高。

关键词: 化学机械研磨 , 研磨液 , 碳化硅单晶片 , 材料去除率 , 表面质量

硅空间太阳电池研究进展

朱鑫 , 沃银花 , 席珍强 , 杨德仁

材料导报

硅空间太阳电池是目前主要的空间电源设备,正朝着50~70μm的超薄趋势发展,预示了其优良的使用性能和更为广阔的应用前景,这也对电池的转化效率、辐照性能和机械强度提出了更高的要求.较为详细地介绍了针对超薄太阳电池的掺杂剂选择,结构改进,界、表面钝化及织构等方面的研究进展,并试图分析在这些方面可能的突破口.

关键词: Si , 空间太阳电池 , 掺杂 , 钝化 , 织构

钯(Ⅱ)-对碘偶氮氯膦-吐温-60三元体系分光光度法测微量钯的研究

刘锡林 , 朱鑫 , 林安平 , 李欣

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2002.03.019

在钯(Ⅱ)与对碘偶氮氯膦配合物中加入吐温-60,形成三元显色体系,后者的灵敏度有显著的提高,其表观摩尔吸光系数ε638=6.0×104 L*mol-1*cm-1,钯含量在 0.1~1.2 mg*L-1 范围内符合比耳定律;同时方法的选择性亦有所改善,可在水相中直接测定微量钯,常见阳离子对此反应均无干扰,其他贵金属离子也有数倍的允许值,在钯催化剂回收液和二次阳极泥的微量钯的测定中,获得满意的结果.

关键词: , 对碘偶氮氯膦 , 吐温-60 , 分光光度法

含二苯并-18-冠-6席夫碱型液晶冠醚钾配合物的液晶行为

朱鑫 , 张淑媛 , 李辉 , 李自法

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2010.01.007

以顺(反)-4,4'-双[4-(4'-正烷氧基联苯基-4-羧基)苯亚氨基]二苯并-18-冠-6(Ⅰ和Ⅱ)为配体合成了2种系列席夫碱型液晶冠醚钾配合物,产率分别为85.5%~92.1%和88.7%~90.7%.配合物的结构通过元素分析、IR、UV-Vis和AAS等测试技术确证.液晶行为通过DSC、POM、XRD等方法表征.实验结果表明,所有配合物均具有热致液晶性,且随分子末端烷氧基碳原子数增加,其熔点和清亮点呈规律性变化.近晶相温度范围渐增,向列相温度范围递减.与配体相比,配合物液晶态温度范围变宽.

关键词: 钾配合物 , 液晶冠醚 , 席夫碱型 , 热致液晶性

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