李飞
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李雁淮
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徐可为
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宋忠孝
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张智
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崔红
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周莉
稀有金属材料与工程
粉体是决定等离子喷涂热障涂层性能的基本因素,本文主要介绍了高性能等离子喷涂热障涂层用氧化锆空心球粉体的制备方法及其涂层性能的相关研究.等离子球化和喷雾干燥造粒是制备氧化锆空心球粉体的两种不同方法;氧化锆空心粉体在等离子喷涂过程中更易熔化,并且在熔化后形成空心液滴;空心液滴与基体碰撞铺展过程中存在的“反溅”使其铺展凝固时间更长,形成的扁平粒子直径小,厚度均匀,缺陷少;相对于其它类型粉体,采用氧化锆空心球粉体制备的热障涂层具有适中的孔隙率,低热导率和低模量,抗高温烧结,符合高性能热障涂层的性能要求.
关键词:
热障涂层
,
等离子喷涂
,
氧化锆
,
空心球粉体
李飞
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李雁淮
,
宋忠孝
,
徐可为
,
张智
,
崔红
稀有金属材料与工程
采用X射线结合全谱拟合,对共沉淀纳米YSZ制备过程中的晶体结构演变进行了分析.结果表明,四方纳米YSZ的含量与锻烧温度有关;在低锻烧温度下生成的四方纳米YSZ具有错乱的品格,其晶格参数随锻烧温度的升高而变化,经1200℃锻烧后恢复;四方纳米YSZ的晶粒尺寸随锻烧温度的升高先减小后增大.同时探讨了品格参数变化的原因并计算了四方纳米YSZ晶粒生长的激活能.
关键词:
YSZ
,
共沉淀
,
晶体结构
,
全谱拟合
马胜利
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李雁淮
,
徐可为
金属学报
用工业型脉冲等离子体化学（ＰＣＶＤ）设备. 在高速钢（Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ）和钴基硬质合金ＳＣ３０基材表面沉积了ＴｉＮ薄膜, 用扫描电镜（ＳＥＭ）和连续加载压入仪研究了脉冲电压幅值对膜基结合行为的影响, 结果表明：随脉冲电压在５５０－７５０Ｖ之间逐渐增大, ＴｉＮ晶粒增大, 膜层脆性增加, 沉积速率提高. 但膜层结合力下降：在６５０Ｖ以下膜基界面有一伪扩散层出现, 通过６５０Ｖ后伪散层消失, 这是改善膜基结合行为的关键因素.
关键词:
PCVD
,
null
,
null
,
null
马胜利
,
李雁淮
,
徐可为
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2000.01.018
用工业型脉冲等离子体化学气相沉积(PCVD)设备,在高速钢(W18Cr4V)和钴基硬质合金SC30基材表面沉积了TiN薄膜,用扫描电镜(SEM)和连续加载压入仪研究了脉冲电压幅值对膜基结合行为的影响.结果表明:随脉冲电压在550-750 V之间逐渐增大,TiN晶粒增大,膜层脆性增加,沉积速率提高,但膜层结合力下降;在650 V以下膜基界面有一伪扩散层出现,超过650 V后伪扩散层消失,这是改善膜基结合行为的关键因素,讨论了伪扩散层形成的可能机制.
关键词:
PCVD TiN
,
膜基结合力
,
压入法
