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RF-PECVD法在钢衬底上沉积氮化硅薄膜的研究

杜平凡 , 席珍强 , 汪新颜 , 金达莱 , 王勇

功能材料

采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在钢衬底上沉积氮化硅薄膜.用台阶仪、X射线光电子能谱(XPS)、透射电镜(TEM)和扫描电镜(SEM)等手段对薄膜的厚度、成分、结构及形貌进行表征,并探讨了各工艺参数对薄膜沉积速率的影响.

关键词: 氮化硅薄膜 , 钢衬底 , RF-PECVD , 沉积速率

钢铁表面氮化硅薄膜生成技术

沃银花 , 杜平凡 , 姚奎鸿

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.02.003

氮化硅(Si3N4)因其优异的性能可能在钢铁表面的改性技术中获得重要应用,钢铁表面复合氮化硅层的生成和应用已成为当今材料科学研究开发的热点之一.综述了钢铁表面形成氮化硅薄膜的基本过程,各种制备方法、特点及影响因素.

关键词: 钢铁表面改性 , 氮化硅薄膜 , 化学气相沉积 , 扩散层

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