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张毅 , 陈英颖 , 吴则嘉 , 刘晓晗 , 杨晟远 , 张林春
冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2004.z1.074
介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜:通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率,建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法.方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析,并将分析深度剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照.实验结果表明,本分析方法快速、准确,具有实际应用价值.
关键词: 辉光放电 , 光谱法 , 掺杂 , 纳米硅薄膜
