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低红外发射率TiO2/AgxCU1-x/Ti/TiO2纳米多层膜

刘海鹰 , 刁训刚 , 王丽玲 , 杨盟 , 武哲 , 舒远杰

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.01.002

利用磁控溅射制备了银含量在100%至80%之间的单层银铜合金薄膜和TiO2/AgxCu1-x/Ti/TiO2纳米四层膜.利用X射线衍射、扫描电子显微镜、扫描俄歇微探针,分光光度计、红外发射率测量仪对样品进行表征,研究了单层金属膜和多层膜的光学、电学性质随着银含量的变化以及热处理前后薄膜性能的变化.结果表明:相同厚度的合金膜,随着Ag含量的降低,导电性能下降,Ag含量低于80%的合金已不适合作为多层膜的金属层;150 ℃大气下热处理30 min,纯银薄膜性质发生明显变化,明视透过率下降10%,方块电阻由2.5 W/□增加至18 W/□,红外发射率由0.17增加到0.69.AgCu合金薄膜性质未发生明显变化.方块电阻相近的TiO2/AgxCu1-x/Ti/TiO2纳米多层膜,经250 ℃大气下热处理40 min后,TiO2/Ag/Ti/TiO2和TiO2/Ag80Cu20/Ti/TiO2纳米多层膜的性质变化较小,热稳定性较好,其余的多层膜性质发生较大变化,红外发射率显著增加.

关键词: TiO2/AgxCu1-x/Ti/TiO2纳米多层膜 , 低红外发射率 , 磁控溅射

射频磁控溅射制备TiO2-xNx薄膜及其光催化特性研究

陈顺利 , 刁训刚 , 杨盟 , 刘海鹰 , 王天民

功能材料

利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了透明TiO2和TiO2-xNx薄膜样品,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)及UV-Vis分光光度计等测试手段表征了样品的结构、形貌和光催化性能.结果表明制备的薄膜为锐钛矿相结构.随着N2/Ar气流比的增大薄膜样品出现新的物相,吸收光谱向可见光方向展宽,在N2/Ar流量比为3:100时,制备的薄膜在可见光区具有很好的光催化性能.

关键词: 掺氮TiO2薄膜 , 光催化 , 磁控溅射

氮化处理对ITO薄膜光电特性影响

杨盟 , 刁训刚 , 刘海鹰 , 武哲 , 舒远杰

功能材料

利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,分别采用两种方法对薄膜进行氮化处理,即:(1)利用氩气溅射在室温下制备薄膜,随后在氮气和氨气气氛下对薄膜进行热处理;(2)利用氩气/氮气共溅射成膜.利用X射线衍射、霍尔效应、UV-vis-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,对比研究了两种氮化处理方法对ITO薄膜光电特性的影响.结果发现对于低温生长的薄膜,两种方法均能明显提高其在可见光区的透过率.氩气/氮气共溅射的方法会降低薄膜的结晶程度,降低载流子浓度,但使得其紫外/可见/近红外光谱发生明显红移;而热处理方法则能增加薄膜的结晶程度,提高其导电能力.

关键词: 射频磁控溅射 , 氨气和氮气气氛下热处理 , 氮气共溅射 , ITO薄膜

柔性衬底ITO透明导电薄膜的光电性能研究

孙裔 , 刁训刚 , 杨盟 , 武哲 , 舒远杰

稀有金属材料与工程

利用直流磁控溅射方法在柔性聚酯薄膜衬底上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,采用X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测量仪等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了氧含量、薄膜厚度、衬底负偏压对ITO薄膜的晶体结构和光电性能的影响,优化了柔性衬底ITO薄膜的制备工艺条件.制得样品的最佳可见光平均透过率为85.6%,方块电阻为6Ω/□.

关键词: 直流磁控溅射 , 柔性衬底 , ITO透明导电薄膜

氧化铟锡(ITO)薄膜的透明吸波特性研究

杨盟 , 刁训刚 , 孙裔 , 刘海鹰 , 武哲 , 舒远杰

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.05.022

利用直流磁控溅射技术室温下在柔性聚酯薄膜衬底上制备了ITO薄膜,将ITO薄膜与有机玻璃和空白聚酯薄膜等介质材料组合成复合结构,最终得到吸波能力较强的透明吸波体.该吸波体在Ku带(12~18GHz)范围波段衰减低于-10dB,峰值超过-20dB,且在可见光区透光率达到68%.

关键词: 直流磁控溅射 , ITO薄膜 , 透明吸波体

氨气和氮气气氛下热处理对ITO薄膜光电性能的影响

杨盟 , 刁训刚 , 刘海鹰 , 王天民

稀有金属材料与工程

利用射频磁控溅射在室温玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,并分别在氨气、氮气和空气气氛下对薄膜进行了热处理.利用X射线衍射、霍尔效应、UV-VIS-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了不同热处理气氛及温度对ITO薄膜光电特性的影响.结果发现在不同气氛下热处理均能明显提高ITO薄膜在可见光区的透过率,氨气气氛下更有利于薄膜导电特性的改善.

关键词: 射频磁控溅射 , 氨气和氮气气氛 , 热处理 , ITO薄膜

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