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镁合金基体上镍磷镀层的退除

彭金云 , 周建芳 , 邹惠民 , 林伯成

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.07.010

提出了一种采用HF与HNO3退除镁合金上化学镀镍磷镀层的方法.测试了不同HF与HNO3组合的退镀液的性能,并分别测定了不同HF与HNO3含量对退镀效果的影响.结果表明,退镀液中含有一定含量的F-,可保护基体不受腐蚀,其生成的保护膜主要为MgF2.当退镀液中w(HF):w(HNO3):w(H2O)为4:3:3时,效果最好.由于HF有剧毒,因此操作过程应采取相应的防护措施.

关键词: 镁合金 , 化学镀镍磷 , 镀层退除

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