张迪
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程伟明
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林更其
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杨晓非
材料导报
使用射频磁控溅射方法在载玻片上制备Cu薄膜,并通过调整其溅射参数来改变Cu薄膜的内部结构.实验结果表明:当基的片加热温度为100～150℃、薄膜厚度为405 nm、溅射功率为150～300 W时,所制得的沿(111)面择优生长的Cu薄膜的Ⅰ(111)/Ⅰ(200)均大于15,可作为SmCo5垂直磁化薄膜的衬底层.
关键词:
射频磁控溅射
,
SmCo5
,
垂直磁化膜
,
Cu薄膜
许小红
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李佐宜
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段静芳
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张晋芳
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黄致新
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林更其
稀有金属材料与工程
研究了真空退火对 TbCo薄膜结构和磁性能的影响.结果表明:薄膜从溅射态的非晶薄膜转化为退火态的微晶薄膜,并以( 100)面择优取向,其 c轴平行于基片.在真空退火不改变 TbCo薄膜的成分的条件下,发现 TbCo薄膜从溅射态的垂直磁化膜转化为退火态的面内膜.
关键词:
退火
,
磁性能
,
TbCo薄膜
