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钒化合物稳定剂对锡电沉积过程的影响

牛振江 , 林飞峰 , 杨防祖 , 姚士冰 , 周绍民

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2001.03.001

研究了Shiff碱型光亮剂的酸性镀锡体系中,钒化合物稳定剂对锡电沉积的电流效率和镀层外观及织构的影响.当稳定剂质量浓度为0.10 g/L时,镀层的光亮范围向低电流端扩展,在2.5~5.0 A/dm2电流密度范围内,电流效率及沉积速度都有所提高.镀层显示β-Sn(101)和(112)晶面的织构,但含钒稳定剂的镀液中得到的镀层,(101)晶面的织构系数降低而(112)晶面的织构系数增加.

关键词: 钒化合物 , 稳定剂 , 电沉积 , 酸性镀锡

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