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开孔氧化铝薄膜/铝合金基体热屈曲变形和应力分析

弓满锋 , 乔生儒 , 梅芳 , 袁月清

材料导报

假设薄膜和基体界面处于理想结合状态,基于应变协调理论,采用有限元软件(ANSYS 8.0)分析了不同膜基比(hc/hs)和开孔对氧化铝薄膜/铝合金基体系统热屈曲变形、热应力的影响.结果表明,当矩形薄板发生热屈曲时,曲率和热应力均随膜基比非线性变化.随着膜基比的增加,曲率不断减小,而薄膜和基体中的热应力表现出不同的变化趋势,基体中的热应力随膜基比的增加而增加,薄膜中的热应力随膜基比的增加而减小.当hc/hs<0.005时,曲率受膜基比的影响非常大且曲线较陡;当hc/hs>0.005时,曲率随膜基比的增加而缓慢减小.开孔能在一定程度上缓解系统的热屈曲变形,但是这种缓解程度相对较小.无孔时系统中的热残余应力在面内基本上都是均匀分布的,而开孔时系统中的热残余应力分布不再均匀,特别是在小孔附近产生了严重的应力集中现象,膜基比越小则应力集中现象越严重.

关键词: 氧化铝薄膜 , 铝合金 , 热屈曲 , 变形 , 应力 , 有限元

电瓷瓷套经三种方法机加工后的残余应力变化

弓满锋 , 乔生儒 , 梅芳 , 吴振献

机械工程材料

通过X射线衍射仪分析了一种高强度电瓷瓷套分别经金刚石锯片切割、金刚石砂轮磨削和油石抛光三种不同方法机加工后的残余应力.结果表明:机加工后电瓷瓷套表面残余应力相对较小,且均为拉应力;磨削过程产生的残余应力最大,而抛光可以有效降低电瓷瓷套表面残余应力;由于电瓷瓷套表面因为机加工产生的残余应力值往往达到其断裂强度的30%~50%,所以常会导致电瓷瓷套表面出现裂纹、崩边或豁口.

关键词: 电瓷瓷套 , 金刚石砂轮 , 机械加工 , 残余应力

电镀硬质氧化铝薄膜热残余应力测量

梅芳 , 弓满锋

表面技术

欲改善电镀氧化铝薄膜/铝合金基体体系的服役寿命,需从整体上掌握其力学性能.为此,分别制备了特殊的铝合金热残余应力试样和沉积夹具,采用硫酸阳极氧化法在铝合金基体上制备了10~60 μm厚电镀硬质氧化铝,通过曲率法测试了试样的热残余应力,并分析了薄膜厚度与其热残余应力之间的关系.结果表明:10 ~60 μm厚的电镀硬质氧化铝薄膜热残余应力为较小的拉应力,且随着厚度的增加,应力值呈线性下降趋势.

关键词: 氧化铝薄膜 , 热残余应力 , 曲率法

ZnO薄膜离子注入改性的研究进展

薛书文 , 梅芳 , 肖世发 , 黄子康 , 莫东

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2009.03.008

ZnO是一种在短波长光电器件领域有巨大应用价值的Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料,离子注入是常用的半导体掺杂技术,文章综述了国内外近年来离子注入技术在ZnO的n、p型掺杂等方面的研究进展.

关键词: 氧化锌 , 离子注入 , 掺杂

反式白藜芦醇分子印迹复合膜的制备及其选择性

向海艳 , 张艳芳 , 祁超 , 梅芳 , 李伟国

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2009.07.009

以反式白藜芦醇为模板分子,聚偏氟乙烯微孔滤膜为支撑膜,丙烯酰胺为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸脂(EDMA)为交联剂,采用热引发原位聚合方法制备了白藜芦醇分子印迹聚合物膜. 研究了分子印迹膜对白藜芦醇及其结构类似物(2-萘酚、白藜芦醇甙和双酚A)的结合和透过性,并用扫描电子显微镜对膜的形貌进行了观察. 结果表明,印迹复合膜对模板分子白藜芦醇的吸附量远远大于其它结构类似物,其饱和吸附量达1.72 μmol/g,为非印迹膜的3倍;尺寸比模板分子小的2-萘酚最先透过,而相对于尺寸接近或大于模板分子的双酚A或白藜芦醇甙,则模板分子优先透过,而且模板分子在印迹膜上的透过量大于非印迹膜.

关键词: 白藜芦醇 , 分子印迹复合膜 , 选择性 , 结合透过性质

铝合金圆板上碳化硅涂层热应力有限元分析

梅芳 , 弓满锋 , 李玲

材料导报

假设涂层和基体界面处于理想结合状态下,且不考虑涂层中缺陷的影响,采用有限元软件(ANSYS8.0)分析了5~30μm厚碳化硅涂层中的热变形和热应力.结果表明,在平面法线方向(z方向)上,涂层/基体系统在热应力作用下发生热屈曲,圆心处z方向热变形为0.05mm,而在边缘处2方向热变形为-0.08mm;热变形呈现轴对称的特点,其危险区域在上下表面的圆心部位,该处的热变形最大,也最容易造成该处涂层胀裂失效;对于不同直径的圆板,发生热屈曲时均存在一个类似的z方向零位移环,并且该z方向零位移环的位置与圆盘半径有关,而与涂层厚度无关;计算得出5~30μm厚碳化硅涂层中的热应力约为2.45~11.00GPa,该值远高于1mm厚4043铝合金基体中产生的热应力(24.68MPa);圆板热屈曲后拱起高度和热应力均随涂层厚度的增加而增加.

关键词: 热应力 , 有限元 , 碳化硅 , 铝合金

溅射技术在SiC薄膜沉积中的应用和工艺研究进展

梅芳 , 弓满锋 , 李玲

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.02.027

近年来,国内外SiC薄膜材料制备工艺研究迅速发展,由此带来SiC薄膜性能方面的研究也获得长足的进步,新技术、新工艺、新性能不断涌现.溅射SiC技术相对于其它沉积技术(CVD、PIP等)有许多独特的优点:沉积温度低、结合性和致密性好、表面平整、硬度高、光电性能优异以及工艺安全环保等,因此越来越受到重视,且已经成为沉积高性能SiC薄膜的重要技术方法.主要论述了几种不同溅射技术,着重介绍了溅射技术在SiC薄膜制备中的研究进展及SiC薄膜性能方面的研究进展和应用,并且展望了溅射技术制备SiC薄膜的发展前景和当前热点研究领域.

关键词: 溅射技术 , SiC薄膜 , 进展

毛细管电泳法评价细胞色素c与单链脱氧核糖核酸库的相互作用

梅芳 , 赵新颖 , 屈锋

色谱 doi:10.3724/SP.J.1123.2012.09033

以细胞色素c(Cyt c)为碱性蛋白质模型,建立了毛细管电泳评价Cyt c与3种不同链长的单链脱氧核糖核酸(ssDNA)库相互作用的评价方法,研究了离子强度对Cyt c与ssDNA库相互作用的影响.比较了Cyt c与含有20、40和60个随机碱基序列的3种不同链长的ssDNA库的作用及基于未涂层毛细管和涂层毛细管的毛细管区带电泳方法.因碱性蛋白质在未涂层毛细管管壁上存在吸附,因此利用未涂层毛细管区带电泳不能区别3种ssDNA库与其作用的差异.利用涂层毛细管电泳法,在压力辅助的反向电压下,根据游离ssDNA库的峰面积变化可比较3种ssDNA库与细胞色素c的相互作用差异.结果表明,含有20个随机寡核苷酸链长的ssDNA库与Cty c的作用最强.此外,NaC1浓度显著影响Cyt c与ssDNA60库的作用.在优化的实验条件下,0.02 mol/L NaC1有利于两者的相互作用.调节盐浓度可抑制非特异性静电作用,能提高碱性蛋白质适配体的单轮筛选效率.利用未涂层毛细管电泳分析复合物及游离ssDNA库的峰面积变化,可优化有利复合物形成的盐浓度.

关键词: 毛细管电泳 , 细胞色素c , 单链DNA库 , 碱性蛋白质 , 核酸适配体

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