储开慧
,
狄国庆
材料导报
通过屏蔽传统磁控溅射设备阴极内的磁场和在基片下放置永磁铁,使来自基片下的磁场发挥作用,研究了此外加磁场在溅射过程中对薄膜沉积所产生的影响.用这种方法沉积出的Cu、Al的薄膜的宏观形貌为:膜的中央有一圆斑,在圆斑的外围有环.Al薄膜的中央圆斑处没有物质,为空白圆斑;而Cu薄膜的中央圆斑处有物质.对这一实验现象的产生机理,初步认为是成膜粒子在磁场中表现出的波动性.
关键词:
磁控溅射
,
膜厚
,
梯度磁场
朱炎
,
赵登涛
,
狄国庆
,
方亮
功能材料
研究了反应射频磁控溅射制备的非晶氧化铝薄膜中电荷输运过程,发现交流和直流电导导电机制是明显不同的.对直流输运,以Poole-Frenkel发射模式为主,而新样品的直流电导则常常是带陷阱的空间电荷限制电流模式.交流电导则是由所谓的声子辅助的定域载流子的跳跃引起的.电导的温度特性表明,交流电导有两种不同的导电机制,即低温区的浅陷阱发射和高温区的因氧缺陷导致的深陷阱的发射过程,直流电导与交流电导在高温区趋于一致.
关键词:
非晶氧化铝薄膜
,
Schottky发射
,
Poole-Frenkel发射
,
空间电荷限制电流
,
电导
,
激活能
邵新勋
,
狄国庆
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2003.01.009
采用掩膜方法制备了栅极型薄膜电感,并测试了这些薄膜电感的电感值和品质因数( Q值)在 100MHz- 10GHz范围的频谱特性.在此频率范围内,两种样品的电感值显示了平稳的频率特性,其 数值分别为 130 nH, 155nH;电阻在 6GHz以下也保持平稳,分别为 31Ω, 51Ω, 在这个频率以上,由 于高频趋肤效应而有一定的增大; Q值在 1- 6GHz之间在 20 以上, 并且在 6GHz附近分别达到最 大值 160和 110.在 100MHz- 10GHz范围内 ,这些电学参量的频谱特性符合实际应用的需要.
关键词:
薄膜电感
,
栅极型
,
磁控溅射
,
品质因数
赵登涛
,
朱炎
,
狄国庆
功能材料
用反应溅射方法制备了非晶氧化铝薄膜;以Al/a-Al2O3/Al电容器为载体,研究了此种电容器的电容量,随样品放置时间的衰减过程及其影响因素,结论如下:(1)同一样品,高频下测得的电容随样品放置时间而变小的趋势相对于低频值要缓慢.(2)其它条件相同时,低的工作气压下形成的样品,其电容量不易随时间而改变.(3)真空中的低温热处理有助于改善时效过程.(4)时效的机制可能是样品中亚稳态的缺陷逐渐消失.这些缺陷跟缺氧和吸水没有必然联系,也不太可能是A12O3/Al的界面缺陷;它们的消失跟电老化也无必然联系.机制之一可能是氧过量引起的铝离子过配位的逐渐消失.
关键词:
非晶
,
氧化铝薄膜
,
电容
,
时效过程
,
反应溅射
朱炎
,
狄国庆
,
赵登涛
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.04.012
通过在放电空间中引入垂直基片方向有梯度的磁场 , 使得利用普通的平面磁控溅射技术可以方便地制备磁性薄膜 .与此同时,磁性薄膜的许多物理性能发生了变化.这种变化还出现于非磁性靶的情况中.本工作对有、无磁场时溅射的过程与结果作了比较,包括自偏压值,薄膜结晶状况,薄膜磁性能的变化等等.通过比较认为,带电粒子在放电空间中的特殊磁场位形中的运动是变化的根本原因 .
关键词:
梯度
,
磁场
,
磁控溅射
,
薄膜
