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大屏幕投影拼接系统的设计

柴海峰 , 高国保 , 郝大收 , 李学东 , 王中 , 杭力 , 刘召军 , 孙鹏飞 , 吴春亚 , 孟志国 , 熊绍珍

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.03.020

设计了一个可实现无缝拼接系统的研究示例:将一个高分辨率的图像分为两个分图像,按两部分在边缘交叠的方式分别投影.在投影之前,选用简单的线性函数关系,对待重叠部分进行了淡入淡出的处理,经这样叠加后重叠部分的重叠痕迹可适当消除.但鉴于像素信号与亮度之间还应满足伽马(Garoma)关系,故在处理过程中同时进行了Gamma校正的设计.研究过程中,考虑到不同成像终端之间,在色度表征方式以及Gamma校正已有自身规则,可方便转换,文章从简化研究出发,首次采用当前计算机监视器的液晶屏为投影成像的终端,研究它的融合结果,并实测融合图像部分的光强,以检查融合的实际效果.发现采用简单的线性函数并选择2.15的Gamma校正值,较之未作伽马校正前的,能改善融合区与未处理区的亮度差异达两个量级.最后给出了经这样处理后在液晶显示屏上获得较为良好的拼接效果.

关键词: 数字光处理 , 无缝拼接 , 边缘融合 , Garoma校正

Ni52MI24Ga24金属间化合物的单晶生长和磁性功能

陈京兰 , 胡凤霞 , 高书侠 , 王中 , 高智勇 , 赵连城 , 宫声凯 , 徐惠彬

金属学报

研究了Ni52Mn24Ga24合金单晶在磁场作用下能产生的目前最大的磁致伸缩应变.发现了该材料的双向相变应变效应以及磁场对此的增强现象在1.2 T磁场的作用下,可逆的相变应变达4%以上.实现这一结果的关键条件是马氏体变体的择优取向报道了获得马氏体变体的择优取向样品的单晶生长特性和后处理方法.根据前人报道的理论模型分析了实验结果,指出磁感生应变的物理机制是磁场提供的Zeeman能驱动变体间孪晶界的移动.

关键词: Ni52Mn24Ga24 , null , null

Ni52MI24Ga24金属间化合物的单晶生长和磁性功能

陈京兰 , 胡凤霞 , 高书侠 , 王中 , 高智勇 , 赵连城 , 宫声凯 , 徐惠彬

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2001.04.004

研究了Ni52Mn24Ga24合金单晶在磁场作用下能产生的目前最大的磁致伸缩应变.发现了该材料的双向相变应变效应以及磁场对此的增强现象在1.2 T磁场的作用下,可逆的相变应变达4%以上.实现这一结果的关键条件是马氏体变体的择优取向报道了获得马氏体变体的择优取向样品的单晶生长特性和后处理方法.根据前人报道的理论模型分析了实验结果,指出磁感生应变的物理机制是磁场提供的Zeeman能驱动变体间孪晶界的移动.

关键词: Ni52Mn24Ga24 , 形状记忆 , 磁致伸缩

退火温度对纳米PtSi/Si异质结形成的影响

殷景华 , 蔡伟 , 王培林 , 郑玉峰 , 王中 , 李美成 , 赵连城

功能材料

采用XPS、XRD、AFM测试技术,研究退火温度对PtSi/Si异质结薄膜硅化物形成、分布及硅化物薄膜表面形貌的影响.测试结果表明,低温退火,薄膜中相分布顺序为Pt→Pt2Si→PtSi→Si;高温退火,相分布顺序为Pt→Pt2Si+PtSi→PtSi→Si或Pt+PtzSi+PtSi→PtSi→Si.退火温度高,薄膜中晶粒尺寸大,表面粗糙.

关键词: 退火温度 , PrSi/Si异质结 , 硅化物 , 薄膜 , 表面形貌

抛光技术的现状

赵兴科 , 王中 , 郑玉峰 , 赵连城

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2000.02.002

简要介绍了目前各种抛光技术的原理、特点,并提出了选用的原则.

关键词: 抛光技术 , 现状

合成时间和温度对金刚石聚晶硬度和磨耗比影响的研究

王中

兵器材料科学与工程

  借用六面顶金刚石压机,以粒度为5μm的金刚石微粉为原材料、Co为黏结剂,在不同的合成时间和温度参数下得到金刚石聚晶(PCD),测其显微硬度和磨耗比。研究发现:PCD的磨耗比、维氏硬度等均随烧结时间的增长先增加后降低,在烧结时间为180 s 时达到最大;PCD 的磨耗比、维氏硬度等均随烧结温度的升高先变大后减小,在烧结温度为1550℃时达到最大,烧结温度过低,金刚石晶粒棱角分明,晶粒间隙较大,而烧结温度过高,晶粒发生异常生长。通过对PCD试样的显微形貌和微观结构观察,分析了PCD试样出现显微硬度和磨耗比差异的原因。

关键词: 聚晶金刚石 , 合成时间 , 合成温度 , 磨耗比

时效Ti49Ni51合金的显微组织与双程形状记忆效应

王利明 , 孟祥龙 , 蔡伟 , 王中 , 赵连城

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.04.017

采用弯曲试验和透射电镜分析研究了时效Ti49Ni51合金的显微组织与双程形状记忆效应.结果表明,500 ℃,1 h时效处理试样中Ti3Ni4相呈透镜片状,周围有较强的应变场衬度,而500 ℃,30 h时效试样中,Ti3Ni4相已聚集长大成粗片状,与基体失去共格.500 ℃,1 h时效处理试样在训练后可获得较好的双程形状记忆效应.时效Ti49Ni51合金中Ti3Ni4相粒子周围的共格应变场和训练时位错交互作用可以产生有效内应力场,从而诱发双程形状记忆效应.

关键词: Ti49Ni51合金 , 时效 , Ti3Ni4相 , 显微组织 , 双程形状记忆效应

磁性形状记忆材料Ni-Mn-Ga,研究现状

高智勇 , 王中 , 郑玉峰 , 赵连城

功能材料

Ni-Mn-Ga是一种新发展起来的磁性形状记忆材料,除具有较大的可逆恢复应变量和恢复力外,又具有很高的响应频率,是一种极具工程应用前景的新型功能材料.本文系统概述了Ni-Mn-Ga合金的晶体结构、马氏体相变、应力应变行为及其形状记忆效应机制的研究现状,并指出了需深入研究的问题.

关键词: 马氏体相变 , 形状记忆效应 , 应力应变行为

Sr+B+RE联合细化变质对Al-30Si合金热处理性能的影响

王中

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.06.025

通过正交试验、金相实验和硬度实验研究了Sr+ B+ RE联合细化变质后的Al-30Si合金的固溶温度、保温时间对合金显微组织及硬度的影响,得出了Sr+ B+ RE联合细化变质后的Al-30Si合金的最佳热处理工艺参数.结果表明,圉溶温度与保温时间对合金显微组织与硬度均有影响.当保温时间一定时,随着固溶温度的升高,初晶硅溶入基体越来越充分,被基体分割的效果越来越明显,共晶组织变得粗大,圆整度变高,合金硬度提高.当固溶温度一定时,随着保温时间的延长,初晶硅溶入基体越来越充分,被基体分割的效果越来越明显,共晶组织变得粗大,圆整度变高,合金硬度提高,当温度达到540 ℃时,保温时间的延长使共晶组织圆整度变差,合金的硬度反而下降,固溶温度为540℃、保温时间为7h时硬度最高.Sr+ B+ RE联合细化变质后的Al-30Si合金的最佳热处理工艺参数为540℃×7h.

关键词: 热处理工艺 , Sr+B+RE , 细化变质 , Al-30Si , 组织 , 力学性能

Ti36Ni49Hf15高温形状记忆合金的显微组织与界面结构

郑玉峰 , 王中 , 孟祥龙 , 赵连城 , 叶恒强

金属学报

利用透射电镜和高分辨电镜系统地研究了Ti36Ni49Hf15合金的显微组织与相结构, 热致马氏体开貌, 亚结构, 马氏体变体间的组织结构结构. 结果表明, 固溶处理Ti36Ni49Hf15合金的室温组织由马氏体基体和呈球状与多边形状的(TixHf1-x)2Ni第二相粒子组成, 马氏体相为单斜B19’结构, 点阵常数为:a=0.2454nm, b=0.4087nm, c=0.4791nm, β=99.32°

关键词: 形状记忆合金 , null , null , null

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