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钛合金表面MoS2/TiN复合涂层的摩擦性能研究

王利捷 , 杨军胜

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.02.004

采用复合处理的工艺方法,在Ti-6A1-4V合金表面制备复合涂层.用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和X射线能谱仪分析复合涂层表面相结构、表面及截面微观形貌和沿截面各元素分布状态.对不同处理后的截面硬度梯度进行了分析比较,在MM-200磨损实验机上测定了复合涂层的摩擦性能.结果显示,复合涂层是由单质的Ti,Mo和MoS2,TiN以及过渡层组成,在干摩擦、纯滑动的条件下摩擦性能优良.

关键词: 钛合金 , 离子渗氮 , 磁控溅射 , MoS2/TiN复合涂层

Nb-Ti-Si合金表面辉光离子渗Mo/包埋渗Si制备MoSi2涂层的研究

曹正 , 田晓东 , 李宁 , 王利捷 , 吕娜

表面技术

目的:在Nb-Ti-Si合金表面制备MoSi2涂层。方法先进行辉光离子渗Mo,再进行包埋渗Si。分析温度对渗Mo层表面形貌、厚度、元素互扩散的影响,以及渗Si后涂层的表面形貌和结构。结果在1100°进行辉光离子渗Mo,渗Mo层与基体形成了显著的互扩散。对渗Mo层进行包埋渗Si后,所形成的涂层组织致密,具有多层结构,由外向内依次为MoSi2层、NbSi2层和Nb5 Si3层,在MoSi2和NbSi2层之间存在( Mo,Nb) Si2互扩散区。结论通过辉光离子渗/包埋渗的方法,可以在Nb-Ti-Si合金表面制备MoSi2涂层,且涂层与基体呈冶金结合,结合较好。

关键词: Nb-Ti-Si合金 , 辉光离子渗 , 包埋渗 , MoSi2涂层

纯钼表面包埋Si-B共渗涂层的显微组织及低温氧化行为

田晓东 , 郭喜平 , 尹忠奇 , 孙志平 , 王利捷

材料热处理学报

在纯钼表面进行包埋Si-B共渗,研究B改性MoSi2涂层的结构及其在600℃下的氧化行为.利用XRD,EDS,WDS分析涂层的相组成和结构,并结合热力学计算分析涂层的组织形成.结果表明:采用16Si-4B-4NaF-76Al2O3渗剂在1100 ~ 1400℃下可制备Si-B共渗涂层,涂层由外向内可分为五层:最外层MoSi2,次外层MoSi2+MoB,第三层Mo5Si3,第四层MoB和最内层Mo2B;涂层主体为MoSi2,渗入的B在与基体反应形成Mo-B化合物层的同时,还在MoSi2中形成MoB相;涂层的生长以Si,B原子向内扩散为主;在600℃氧化时涂层中的B向表面扩散并氧化生成B2O3.

关键词: MoSi2 , 涂层 , 包埋渗 , Si-B共渗 , 氧化

镁合金微弧氧化处理电压对陶瓷层的影响

陈宏 , 郝建民 , 王利捷

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2004.03.007

研究了微弧氧化处理中起始电压U始、终止电压U终对陶瓷层的影响,发现电压是决定微弧氧化陶瓷层生长厚度及表面粗糙度的关键.结果表明:当起始电压U始相等时,终止电压U终(或△U)愈高,陶瓷层厚度愈厚;当终止电压U终相等时,起始电压U始愈高,陶瓷层厚度也愈厚.试样的表面粗糙度随微弧氧化处理终止电压U终的升高而增加,与U始变化的关系不明显.

关键词: 镁合金 , 微弧氧化 , 陶瓷层 , 粗糙度 , 电压

TC4钛合金表面辉光离子渗Mo渗S复合处理涂层的组织和摩擦学性能

田晓东 , 王利捷 , 郑文鹏

表面技术

利用辉光离子渗的方法,在TC4钛合金表面首先沉积Mo耐磨涂层,然后对渗Mo层在650℃进行渗S处理,研究了渗Mo渗S复合涂层的表面结构、硬度和磨损性能.结果表明:Mo层渗S后,表面组织细化,硬度降低;渗Mo渗S复合涂层表面形成相以具有润滑作用的MoS2为主,另外还有少量Mo2C和Ti2S相;渗Mo渗S涂层的磨损速率约为TC4的1/10.

关键词: 钛合金 , 辉光离子渗 , 渗钼 , 渗硫 , 摩擦学性能

钛铝基合金离子碳氮共渗及其耐磨性的研究

王利捷 , 陈宏 , 郝建民

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.08.016

为提高TiAl基合金的耐磨性及抗高温氧化性,利用渗氮在TiAl基合金表面形成氮化物,以提高耐磨性;渗碳形成致密且与基体结合牢固的碳化物层,提高抗高温、抗氧化性;将二者结合,采用辉光离子碳氮共渗的方法,研究了渗层的相结构组成、不同工艺参数对TiAl基合金离子碳氮共渗后渗层厚度以及表面硬度和耐磨性的影响.结果表明:TiAl基合金共渗层是由碳氮化合物层与过渡层组成的复合相结构;随共渗温度的升高和时间的延长,渗层厚度增加;与未经共渗处理的试样相比,表面硬度及耐磨性显著提高.X射线衍射结果显示,渗层主要由TiC,TiN,AlTi3,Al2O3等组成.

关键词: 离子碳氮共渗 , TiAl基合金 , 渗层厚度 , 表面硬度 , 耐磨性

钛合金辉光离子渗硫与摩擦学特性研究

王利捷 , 王红波 , 郝建民

稀有金属材料与工程

对Ti-6Al-4V合金表面进行辉光离子渗硫处理后的显微组织、摩擦学特性进行了研究.结果表明:合金经离子渗硫处理后,渗层主要由TiS2、TiS、TiS3、Ti2S等硫化物组成;对处理前后试样的摩擦学性能研究显示,渗硫后试样在干摩擦纯滑动的情况下表现出良好的减摩性能,并对减摩机理进行了探讨.

关键词: Ti-6Al-4V , 离子渗硫 , 摩擦学特性

沉积温度对TC4钛合金表面辉光离子渗Mo层组织和耐磨性能的影响

田晓东 , 王利捷 , 孙波

航空材料学报 doi:10.3969/j.issn.1005-5053.2013.4.008

利用辉光离子渗的方法,在TC4钛合金表面沉积Mo耐磨涂层.利用XRD、SEM、EDS、显微硬度仪和摩擦磨损试验机研究了沉积温度(850℃,950℃和1050℃)对Mo涂层的组织结构、耐磨性能及磨损机制的影响.结果表明:涂层由Mo外层和互扩散区组成,互扩散区主要为Mo-Ti固溶体相;随着沉积温度的升高,Mo涂层的生长速率增加,但平均晶粒尺寸增大,因而硬度、耐磨性能降低;纯滑动干摩擦载荷为98N时,950℃/5h沉积所形成Mo涂层的磨损速率约为TC4钛合金的1/45.

关键词: 辉光离子渗 , 晶粒大小 , 生长速率 , 耐磨性能

镁合金微弧氧化陶瓷层耐蚀性的电化学分析

陈宏 , 郝建民 , 王利捷

腐蚀与防护 doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2004.09.005

采用IM6e型电化学工作站,测试了镁合金微弧氧化后陶瓷层的电化学阻抗(EIS)、稳态电流/电位极化曲线(Steady State I/E Recording)以及Tafel斜率.结合测量结果对微弧氧化处理镁合金的耐蚀性进行分析.结果表明,经过微弧氧化处理后试样的电化学阻抗比未经处理原始试样的电化学阻抗高3个数量级.微弧氧化处理过程中存在一个最佳陶瓷层厚度,当超过或低于这个最佳厚度时,试样的耐蚀性都较差,只有达到这个最佳厚度时,试样的耐蚀性才是最佳的.

关键词: 微弧氧化 , 镁合金 , 耐蚀性 , 电化学阻抗 , 极化曲线 , Tafel斜率

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