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王利蕊 , 田宗军 , 赵剑峰 , 花国然 , 张建华 , 黄因慧
材料开发与应用 doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2003.04.008
采用激光熔覆工艺,在42SiMn表面制备了纳米SiC陶瓷涂层,对涂层的成分、物相、微观组织等进行了分析.结果表明,选用合理的工艺参数,利用激光熔覆可以得到质量较好的纳米SiC陶瓷涂层,但SiC晶粒尺寸有所长大,且熔覆过程中有分解反应,产生纳米Si与C.
关键词: 激光熔覆 , 纳米材料 , 涂层 , 微观组织
