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柔性衬底氧化物半导体透明导电膜的研究进展

郝晓涛 , 张德恒 , 马瑾 , 杨莺歌 , 王卿璞 , 程传福 , 田茂华 , 马洪磊

回顾和评述了柔性衬底氧化物透明导电膜(包括锡掺杂的三氧化二ITO薄膜、铝掺杂的氧化锌AZO薄膜等)的研究进展情况.报道了在柔性衬底上制备的ITO膜、ZnO膜的光电性质对衬底种类、制备工艺以及制备参数的依赖关系,给出了在此领域内应进一步进行的工作.

关键词: 柔性衬底 , 氧化物半导体 , 透明导电膜

溅射法生长 MgxZn1- xO薄膜的结构和光学特性

张锡健 , 马洪磊 , 王卿璞 , 马瑾 , 宗福建 , 肖洪地 , 计峰 , 王翠英

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2005.01.003

用射频磁控溅射法在不同衬底上制备出了 MgxZn1- xO薄膜. X射线衍射 (XRD)和原子力显微镜( AFM)研究结果表明,薄膜为六角纤锌矿结构,具有( 002)方向择优取向;随氧分压增加,( 002) 衍射峰的角度变大,表征薄膜表面粗糙程度的方均根粗糙度减小.室温光致发光谱中有多个紫外及可见光致发光峰,其中 344nm发光峰应来源于近带边发射.室温透射谱表明薄膜在可见光区具有极高的透过率,薄膜的吸收边位于 340nm附近,进而估算出 MgxZn1- xO薄膜的带隙宽度为 3.59eV, 与光致发光结果一致.

关键词: MgxZn1- xO薄膜 , 射频磁控溅射 , 光致发光

柔性衬底铝掺杂氧化锌透明导电膜的特性研究

郝晓涛 , 马瑾 , 田茂华 , 王卿璞 , 马洪磊 , 叶丽娜 , 陈峰

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2002.01.003

室温下采用射频磁控溅射法在有机薄膜-聚丙烯己二酯(polypropyleneadipate,PPA)衬底上制备出了ZnO:Al(AZO)透明导电膜.其它制备参数保持不变的条件下通过改变淀积时间得到厚度不同的薄膜,并对不同厚度AZO薄膜的结构特性、光学特性和电学特性进行了研究.

关键词: 透明导电膜 , AZO薄膜 , 柔性衬底

退火温度对射频磁控溅射法生长的Mg0.16Zn0.84O薄膜性质的影响

张锡健 , 马洪磊 , 王卿璞 , 马瑾 , 宗福建 , 肖洪地 , 计峰

功能材料

采用射频磁控溅射的方法在硅衬底上生长出高质量的Mg0.16Zn0.84O薄膜.用X射线(XRD)、原子力显微镜(AFM)分别研究了在200、400、600和800℃下空气中退火2h的Mg0.16Zn0 84O薄膜的结构、表面形貌.结果表明,Mg0.16Zn0.84O薄膜是六角纤锌矿结构,具有沿与衬底垂直的C轴的择优取向;随着样品退火温度的升高,(002)衍射峰强度明显增强,衍射峰半高宽(FWHM)由0.86°单调地降低到0.40°,晶粒大小明显增大,最大的高达400nm以上.用TV1900型双光束紫外可见分光光度计测量了淀积在蓝宝石衬底上的Mg0.16Zn0.84O薄膜室温的透射谱,得到可见光区的平均透过率约为95%,进而估算出Mg0.16Zn0.84O薄膜的带隙宽度约为3.58eV.

关键词: MgZn1-xO薄膜 , AFM , XRD , 退火

A binary-weighted 64-dB programmable gain amplifier with a DCOC and AB-class buffer

叶向阳 , 王云峰 , 张海英 , 王卿璞

半导体学报（英文版） doi:10.1088/1674-4926/33/2/025003

关键词:

MgxZn1-xO薄膜的结构特性研究

张锡健 , 马洪磊 , 王卿璞 , 马瑾

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2006.01.039

采用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备了MgxZn1-xO(x=0.23)薄膜,用X射线衍射(XRD)、高分辨透射电镜(HRTEM)、喇曼(Raman)光谱和原子力显微镜(AFM)研究了薄膜的结构特性.XRD和HRTEM分析结果表明MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,且具有沿c轴的择优取向,晶格常数与ZnO晶体的近似相等.Raman光谱不仅揭示MgxZn1-xO薄膜具有六角纤锌矿结构,而且也表明MgxZn1-xO薄膜的结晶质量比在相同条件下制备的ZnO薄膜好.AFM图像则显示出MgxZn1-xO薄膜为多晶结构.

关键词: MgxZn1-xO , 射频磁控溅射 , 结构特性

薄膜厚度对ZnO∶Al透明导电膜性能的影响

郝晓涛 , 马瑾 , 马洪磊 , 杨莺歌 , 王卿璞 , 黄树来

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2002.03.003

铝掺杂的氧化锌(ZnO∶Al)透明导电膜是采用射频磁控溅射法在有机衬底(Polypro-pylene adipate, PPA)和Corning 7059玻璃上制备的.详细研究了薄膜的结构性质、光学和电学性质随薄膜厚度的变化关系.制备的ZnO∶Al薄膜具有(002)面的单一择优取向的多晶六角纤锌矿结构,性能优良的薄膜电阻率在两种衬底上分别为2.55×10-3Ω·cm和1.89×10-3Ω·cm,平均透射率达到了80%和85%.

关键词: ZnO∶Al透明导电膜 , 薄膜厚度 , 柔性衬底