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镁合金微弧氧化膜有机封孔耐腐蚀性能的研究

王天石 , 何劼 , 夏乐洋 , 陈科璞 , 吾提库尔 , 温潇 , 杜建成

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2006.06.003

镁合金AZ91D经微弧氧化处理后得到与基体结合牢固、表面多孔的氧化膜,研究了在该氧化膜上涂覆有机涂层进行封孔的方法,利用扫描电镜从复合膜层的横截面分析了有机涂层对微弧氧化膜层的封孔情况,并对封孔后的镁合金表面膜层的结合性能和耐腐蚀性能进行了初步试验分析.研究表明,有机涂层能渗入微弧氧化膜孔洞内5~30μm,与氧化膜层结合紧密.经1% HCl溶液浸泡试验,结果表明经过有机封孔后的微弧氧化膜层的耐腐蚀性能大大提高.

关键词: 镁合金 , 微弧氧化 , 有机封孔 , 耐腐蚀

镁合金等离子体微弧氧化过程负电压调控的研究

何宏辉 , 曾庆圣 , 王天石 , 霍天成 , 何劼 , 杜建成

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2006.02.028

研究了AZ31镁合金在不同电压条件下的成膜效果,着重研究了在固定正电压而改变负电压的情况下的成膜厚度、致密度、耐腐蚀性能等差别,讨论了负电压在成膜过程中的作用,并且比较了在不同的溶液体系中负电压对于成膜性能以及二次放电现象的影响.结果表明:较低的负电压能在一定程度上促进氧化膜的生长,使致密的氧化层变厚,提高膜的性能.而高负电压会加速成膜速度并导致较为剧烈的二次放电现象,使膜的致密性降低,从而降低膜的性能.

关键词: 镁合金 , 微弧氧化 , 负电压

镁合金等离子体微弧氧化膜层研究

曾庆圣 , 何宏辉 , 霍天成 , 王天石 , 何劼 , 杜建成

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.05.008

研究了镁合金AZ31在磷酸盐和硅酸盐两种不同的溶液体系下生成氧化膜的性质,比较了多种因素,特别是负电压对于生成氧化膜的影响;并且通过X射线衍射(XRD)等方式分别确定了两种不同溶液条件下氧化膜的成分.结果表明:较低的负电压有利于氧化膜的生长,延缓二次放电现象的发生.在我们得到的氧化膜中,最主要的成分为高温相的MgO,不同于以往条件下得到的普通相MgO氧化膜,能提高镁合金的一部分性能.

关键词: 镁合金 , 微弧氧化 , 氧化膜 , 负电压 , 等离子体

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