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碳纳米管薄膜电极的制备及电容吸附性能

李茂刚 , 王新征 , 林开利 , 陈奕卫 , 孙卓 , 成荣明

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.01.007

采用低压CVD法制备得到的金属镍基碳纳米管薄膜直接作为电容去离子器(CDD)的电极材料,并对碳纳米管薄膜进行了扫描电镜观察和比表面与孔径分析,探讨了该电极材料的电容吸附性能.NaF溶液的吸附实验结果表明:该电极材料的去离子效果明显、且可再生和重复使用.

关键词: 碳纳米管薄膜 , 电容吸附 , 可再生

退火时间对铝诱导非晶硅薄膜晶化过程的影响

焦栋茂 , 王新征 , 李洪涛 , 郭烈萍 , 蒋百灵

人工晶体学报

基于铝诱导非晶硅薄膜固相晶化方法,利用直流磁控溅射离子镀技术制备了Al/ Si…Al/ Si/ glass周期性结构的薄膜.采用真空退火炉对Al/ Si多层薄膜进行了500℃退火实验,通过透射电子显微镜(TEM)分析了不同退火时间下Al/ Si多层薄膜截面形貌的变化规律,并结合扩散过程探讨了退火时间对铝诱导非晶硅薄膜晶化过程的影响机理.研究结果表明:在铝诱导非晶硅薄膜固相晶化过程中,在退火过程的初期,晶态硅薄膜的生长主要来源于因Al的存在而形成的硅初始品核数量增加的贡献.随退火时间的延长,晶态硅薄膜的生长主要是依靠临界浓度线已推进区域中未参与形核的硅原子扩散至初始品核位置并进行外延生长来实现的.经500℃退火1 h后,Al/ Si薄膜的截面形貌巾出现了沿Si(111)晶面生长的栾品组织.

关键词: 退火时间 , 非晶硅薄膜 , 晶化 , 扩散

无溶剂聚脲涂料的设计与研究

胡兴兰 , 刘会成 , 王新征

涂料工业

作为近年来出现的一种新型环保涂料,聚天门冬氨酸酯聚脲涂料具有快速干燥但涂膜脆、附着力差的特点.本研究以聚天门冬氨酸酯为基料树脂,以HDI三聚体、HDI缩二脲和自制树脂I15为固化剂制备了无溶剂聚脲涂料,研究了不同固化剂对涂层物理化学性能的影响,从而得到性能不同的涂层,达到提高产品适用性的目的.

关键词: 聚脲 , 聚天门冬氨酸酯 , 力学性质 , 反应活性

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