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非晶碳/Mo2C混合膜的场发射特性

王朝勇 , 姚宁 , 张兵临 , 鲁占灵 , 方莉俐 , 邓记才 , 张新月 , 赵永梅 , 袁泽明

功能材料

以镀有Mo过渡层的A12O3衬底,在微波等离子体增强化学气相沉积(MPCVD)系统中,制备了非晶碳/Mo2C混合结构薄膜,反应气体为CH4和H2.在高真空室中测量了样品场发射特性.开启场强为0.55V/μm,在1.8V/μm电场下样品的发射电流密度为6.8mA/cm2.发射点点密度>103/cm2.用SEM观察了表面形貌,Raman和XRD谱分析了薄膜的微观结构和成分.实验结果表明该薄膜是一种好的场致电子发射体.

关键词: 场发射 , 微波等离子体化学气相沉积 , 非晶碳 , Mo2C

能量过滤磁控溅射低温沉积ITO膜及其光电性能研究

樊丽红 , 王朝勇 , 路钟杰 , 关瑞红 , 姚宁

表面技术

利用能量过滤磁控溅射技术,于低温条件下,在玻璃衬底上制备ITO薄膜,研究了过滤电极金属网栅目数、溅射功率、衬底温度对ITO薄膜光电性能的影响.结果表明:在网栅目数为60目、衬底温度为81℃、溅射功率为165W的条件下,所得ITO薄膜的电阻率为4.9×10-4Ω·cm,可见光区平均透过率达到87%.

关键词: ITO薄膜 , 能量过滤磁控溅射 , 光电性能

可控膨胀Zr2P2WO12/Ni复合材料的制备及性能

李伟杰 , 王朝勇 , 戚瑞琼 , 姚宁 , 晁明举 , 梁二军

人工晶体学报

采用化学共沉淀法制备陶瓷Zr2P2WO12 (ZWP)和金属Ni复合材料粉体,烧结过程中还原剂柠檬酸将金属Ni2+还原.粉体中ZWP粒径100~200 nm,金属Ni粒径50~100 nm,且混合均匀.复合材料块体的制备采用冷压和放电等离子体烧结(SPS)两种方法,结果表明SPS制备的样品具有更好的块体致密度,可达84%以上.研究表明,通过调节Ni离子的掺杂比例可制备出热膨胀系数从负值到正值的可控热膨胀系数复合材料.当Zr2P2WO12/Ni的摩尔比为5∶5时,制备出的材料为近零膨胀复合材料.

关键词: 化学共沉淀 , 可控热膨胀材料 , Zr2P2WO12/Ni

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