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磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜

王怀义 , 刁训刚 , 王武育 , 杨海刚 , 丁破 , 郝维昌 , 王天民

功能材料

利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米NiOx薄膜结构连续可控、可调节.

关键词: 磁控溅射 , 纳米微晶 , NiOx薄膜

不同工艺制备的氟化镁材料对真空镀膜的影响

王武育 , 孙平

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.1998.01.006

用三种不同工艺制得的氟化镁为镀膜材料, 考察了不同材料的结构对镀膜工艺和薄膜光学性能折射率的影响, 并就其影响的原因进行了宏观分析, 为选择高质量的镀膜材料提供了理论依据.

关键词: MgF2 , 真空镀膜

联合法制钛小型试验中镁利用率与还原主控条件的线性回归

王武育 , 王溪晶 , 周荣会 , 张宇 , 刘晓东

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2006.z1.012

根据镁法炼钛还原过程的理论与实践,选取镁利用率(M%)与还原期三个主控参数(四氯化钛加料速度W、还原反应温度T及反应器内压强p)的影响关系为模型,对联合法制钛小型试验中的试验数据,用数理方法进行了线性相关和回归分析,建立了近似反映镁利用率与还原参数的数学模型.

关键词: , 镁利用率 , 还原主控条件 , 线性回归

硫酸锆制备工艺研究

高国强 , 于金凤 , 王武育 , 张欣

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.1998.06.006

介绍了氢氧化钠碱熔分解锆英石, 经水洗、酸浸出、结晶等制取硫酸锆的工艺流程、技术条件及试验结果, 制得的产品含ZrO2 34%, 杂质含量少.

关键词: 锆英石 , 碱熔 , 硫酸锆

基于WO3和NiOx的单基片全无机智能窗器件的快速制备及其性能的研究

王怀义 , 刁训刚 , 王武育 , 郝维昌 , 王聪 , 王天民

功能材料

介绍了利用磁控溅射和一种液氮冷却装置,制备非晶态WO3薄膜、非晶态LiNbO3薄膜和纳米微晶态NiOx薄膜的有效方法.进而,使用这种液氮冷却装置,采用全程基片冷却方法,制备了单基片无机全固态智能窗--G│ITO│NiOx│LiNbO3│WO3│ITO器件.实验结果表明,在400~800nm的可见光范围内,该器件经过1000次循环后,它的漂白态透射率为63.0%,而着色态透射率为10.6%,这一初步工作表明,基片冷却方法应该是制备有优异性能的无机全固态电致变色智能窗的有效方法.

关键词: 磁控溅射 , 无机全固态 , 电致变色 , 智能窗

基于磁控溅射制备纳米微晶NiOx薄膜的方法

王怀义 , 刁训刚 , 王武育 , 郝维昌 , 王聪 , 王天民

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2009.04.017

使用一种配套于磁控溅射设备的基片液氮冷却装置制备了小颗粒度纳米微晶NiOx电致变色薄膜.当溅射参数完全相同时,借助于对基片的冷却可有效控制并降低NiOx薄膜的晶粒尺度.冷却基片所制备的NiOx薄膜的电致变色性能明显优于室温时制备的薄膜,且该薄膜的O/Ni比率也明显高于室温时制备的NiOx薄膜的O/Ni比率.

关键词: 无机非金属材料 , 磁控溅射 , 纳米微晶态 , 电致变色 , NiOx薄膜

氟化镁单晶体与多晶体成膜后薄膜耐磨性分析

王武育 , 孙平 , 代桂君

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2001.01.020

分析了氟化镁单晶体与多晶体成膜过程的行为,得出了二者不同的聚集方式是造成薄膜耐磨性差异的原因这一结论。给出了改善单晶氟化镁耐磨性的最佳退火条件:350℃退火 2 h。

关键词: 氟化镁 , 薄膜 , 耐磨性

TiO2薄膜的光电性能及应用

王武育 , 王溪晶 , 杨太礼

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2008.06.021

TiO2是高折射率(n=2.7)、大介电常数(ε=114)和半导体微电子结构特点.它的薄膜(d<μm时)是具有光学宽透明波限的优异光电子基质材料.在概述TiO2薄膜制备工艺过程及其对TiO2镀膜材料技术要求的基础上,有针对性地分析了薄膜的光电作用机制,重点介绍TiO2薄膜的光电特性及其在民用和高技术领域的具体应用情况,如光反射、光增透、光吸收、太阳能电池、太阳能集热、半导体介电性能等.

关键词: TiO2薄膜 , 光电应用

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