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流动注射化学发光法测定痕量金属元素的进展

刘名扬 , 高健夫 , 邹秀晶 , 钱维仙 , 李俊锋 , 陈淑桂 , 王洪艳

冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2005.02.009

介绍了流动注射化学发光法(FI-CL)的基本原理及其在测定痕量金属元素方面的进展,评述了FI-CL新仪器的研制、新方法的建立、新体系的确立等方面的情况,并展望了FI-CL法测定痕量金属元素的发展方向和研究热点.引文83篇.

关键词: 流动注射 , 化学发光 , 测定 , 痕量金属 , 进展

分光光度-遗传算法同时测定锌、镉、钴、镍、锰

陈国新 , 王英华 , 王洪艳 , 韩洋

冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2005.03.001

在pH 9.3,乳化剂OP存在下,Zn2+,Cd2+,Co2+,Ni2+,Mn2+与5-Br-PADAP发生灵敏的显色反应,所形成的三元胶束络合物的吸收光谱严重重叠,单独测定相互干扰严重.本文将分光光度法与遗传算法相结合,对同一混合体系的总吸光度值进行解析,实现了5种组分的同时测定.模拟样品测定的相对误差一般小于±10%.

关键词: 分光光度法 , 遗传算法 , , , , , , 同时测定

溶液激发方式对化学水浴法沉积CdS薄膜生长的影响

彭星煜 , 古宏伟 , 屈飞 , 丁发柱 , 张腾 , 王洪艳

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2013.05.014

化学水浴法是目前制备CdS薄膜的主流方法之一,其中对溶液实施不同的溶液激发方式会对薄膜的性能产生很大影响.采用4种不同的溶液激发方式:搅拌法、静置法、超声法、摇晃法以化学水浴法沉积了CdS薄膜.采用台阶仪、X射线衍射仪、扫描电子显微镜和原子力显微镜等系统地研究了这4种不同的溶液激发方式对CdS薄膜的生长速度、晶体结构与表面形貌的影响.实验结果表明,随着沉积时间增加,CdS薄膜的厚度都会逐渐增加并最终趋于一恒定值.搅拌法与摇晃法制备的CdS薄膜具有更快的生长速度、更大的颗粒尺寸以及更加粗糙的表面形貌.采用静置法沉积薄膜在沉积时间较短时,薄膜表面存在大面积的由尺寸12 nm的小颗粒构成的区域.随着沉积时间增加,该区域面积逐渐减小进而消失.通过对薄膜表面形貌随沉积时间增加的演化过程的研究,在一定浓度下CdS薄膜的生长是离子-离子生长机制.通过对比不同溶液激发方式沉积的CdS薄膜的表面形貌,分析了不同溶液激发方式对CdS薄膜形貌的影响.

关键词: CdS , 化学水浴法 , 薄膜 , 生长机制

钇钡铜氧超导厚膜的研究进展

王洪艳 , 古宏伟 , 丁发柱 , 张腾 , 彭星煜

稀有金属材料与工程

YBa2Cu3O7-x(YBCO)涂层导体(也称第二代高温超导带材)在77 K下具有较高的不可逆场和本征载流能力,在强电领域有着广泛的应用.第2代高温超导带材是基于薄膜外延技术发展起来的实用超导材料,为使其尽快商业化,科学家们一直在不断探索研究YBCO的基础物性和成材机理.如何制备具有高临界电流密度的厚膜就成为当前YBCO高温超导涂层应用过程中亟待解决的关键问题.介绍了厚膜与临界电流之间的关系并综述了国际主流研究机构对YBCO厚膜的最新研究进展情况.

关键词: 高温超导体 , 钇钡铜氧 , 厚膜

流动注射化学发光法分析Au、Ag、Pt、Pd的进展

刘名扬 , 高健夫 , 李俊锋 , 王洪艳 , 陈淑桂

贵金属 doi:10.3969/j.issn.1004-0676.2005.02.012

介绍了流动注射化学发光法(FI-CL)的基本原理及其测定痕量Au、Ag、Pt和Pd方面的应用.评述了FI-CL仪器的研制、新分析方法的建立、与其它技术联用等方面的最新进展情况.展望了FI-CL法测定痕量Au、Ag、Pt和Pd的发展方向和研究热点.引用56篇参考文献.

关键词: 流动注射 , 化学发光分析 , , , , , 进展

流动注射化学发光法测定地质样品中痕量锗(Ⅳ)

刘浏 , 王英华 , 徐金玉 , 尤正一 , 王洪艳

冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2005.01.003

利用Ge(Ⅳ)对鲁米诺(Luminol)-(NH4)2MoO4-KI体系化学发光反应的催化作用和流动注射技术,建立了流动注射化学发光快速测定Ge(Ⅳ)的方法.该方法线性范围为0.02~1.0 mg/L,检出限为4.9×10-3mg/L,对0.2 mg/L Ge(Ⅳ) 11次平行测定的相对标准偏差为2.7%,该法用于地质样品中痕量锗(Ⅳ)的测定,其相对误差在-5.0%~3.2%.

关键词: 化学发光 , 流动注射 , 锗(Ⅳ)

沉积温度对化学水浴法CdS薄膜物理性质的影响

彭星煜 , 古宏伟 , 丁发柱 , 张腾 , 屈飞 , 王洪艳

稀有金属 doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2014.03.010

研究了化学水浴法制备的CdS薄膜微观结构与其带隙宽度的关系.采用台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、分光光度计、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和能谱仪(EDS)等对不同沉积温度下制备的CdS薄膜的生长速率、晶体结构、光学性质、表面形貌和薄膜组分及其相互间关系进行了研究.随着沉积温度升高,薄膜沉积速率变快,H(002)晶而间距相应增加,带隙宽度逐渐下降.同时CdS薄膜的表面变得更为光滑.结合能谱分析发现,随着沉积温度上升,CdS薄膜的中硫的含量相应增加,薄膜中Cd/S原子比例更加接近于1∶1.CdS薄膜品格常数的增加造成了带隙宽度的下降.而品格常数的变化则归因于沉积温度的变化对薄膜中硫的含量的影响.沉积温度上升会促进OH-离子与硫脲的反应,加速S2-离子的释放,从而导致溶液中S2-离子浓度上升.在CdS薄膜的生长过程中会有更多硫进入到薄膜中,使得薄膜中的硫空位减少而硫空位的减少会使薄膜晶体结构更加完整,导致品格常数上升,更加接近于体材料的晶格常数.

关键词: CdS , 化学水浴法 , 沉积温度 , 带隙宽度 , 薄膜组分

高比表面积活性炭吸附储氢材料的研究进展

赵伟刚 , 罗路 , 王洪艳

材料科学与工程学报 doi:10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2016.05.033

能源和环境被认为是本世纪人类面临的两大挑战,从而引起了人们对于“氢经济”的关注,但是氢气的储存是制约“氢经济”发展的最主要的因素.本文简述了不同的储氢方法以及氢能实用化的目标,回顾了以KOH活化制备高比表面积活性炭的的机理和影响因素,并综述和评价了影响高比表面积活性炭吸附储氢的主要影响因素,即比表面积和微孔孔容、孔径大小和分布、表面含氧官能团和杂原子掺杂.到目前还没有一种材料(包括高比表面积活性炭)可以满足美国能源部(DOE)设定储氢系统实用化的目标,对于高比表面积活性炭的孔径控制以及改性研究或许是实现这一目标的途径.

关键词: , 吸附 , 高比表面积活性炭 , 多孔性 , 表面特性

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