王赞海
,
王星明
,
储茂友
,
郭奋
,
赵鑫
,
沈剑韵
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2006.05.024
用W粉和Ti粉作原料, 采用惰性气体热压法制备W/Ti合金靶材. 研究了靶材致密性、富Ti的β相含量、微观结构均匀性与工艺条件的关系. 结果表明, 控制温度在1250～1450 ℃之间, 压力在20 Mpa左右, 保温时间在30 min左右可制备高性能的W/Ti合金靶材.
关键词:
溅射靶材
,
W/Ti合金靶材
,
扩散阻挡层
,
热压
赵鑫
,
王星明
,
黄松涛
,
储茂友
,
郭奋
,
王赞海
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2006.02.012
介绍了溅射法镀膜的基本原理,阐述了溅射法镀二氧化钛薄膜用靶材及相应溅射镀膜工艺的研究现状.溅射镀TiO2薄膜用靶材主要有金属钛、二氧化钛和"非化学计量"二氧化钛靶材3大类.由于钛的氧化态及靶材导电性不同,它们对溅射工艺(如溅射气氛等)有一定具体的要求,通过对靶材和相应工艺进行分析比较,指出应用"非化学计量"靶材是溅射法制备二氧化钛薄膜技术发展的重要方向.
关键词:
溅射
,
靶材
,
二氧化钛薄膜
王赞海
,
储茂友
,
王星明
,
郭奋
,
赵鑫
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2006.01.021
介绍了W/Ti合金扩散阻挡层在集成电路布线技术中的作用及应用情况. 阐述了W/Ti合金靶材的特性参数-相对密度、微观结构、金属纯度, 与W/Ti合金薄膜性能之间的关系, 指出高密度、高纯度、富Ti相含量少的合金靶材是制备优良W/Ti合金扩散阻挡层薄膜的基本条件. 介绍了制备W/Ti合金靶材的3种方法-真空热压、惰性气体热压、热等静压, 并概述了不同方法制备的靶材性能上的差异, 给出制备高性能W/Ti合金靶材的工艺条件.
关键词:
溅射靶材
,
扩散阻挡层
,
热压
