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用于光刻的准分子激光束整形及其研究进展

林清华 , 宋超 , 王鲁宾 , 周金运

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2007.04.003

阐述了在光刻应用中准分子激光束整形的原因和整形前后光束能量空间分布结果,并对建立准分子激光束整形的理论模型--高斯-谢尔模型(GSM)的方法进行了介绍.总结和分析了微透镜阵列和衍射相位光栅等光束均质器用于光刻激光束整形的优缺点,包括它们的整形能力、能量损失、干涉效应以及波前和振幅均匀化控制等;同时对主要整形器件的原理、特性和进展情况进行了简要综述.

关键词: 激光技术 , 准分子激光束整形 , 光刻 , 微透镜阵列 , 衍射相位光栅