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掺杂比对脉冲激光沉积的ZnO:Al膜性能的影响

葛水兵 , 程珊华 , 宁兆元 , 沈明荣 , 甘肇强 , 周咏东 , 褚君浩

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.01.010

用脉冲激光法制备了ZnO:Al透明导电膜.通过对膜的霍尔系数测量及SEM、XRD分析,详细研究了靶材中的化学配比(掺杂比)对膜的透光率和电阻率的影响.结果表明:掺杂比影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况.掺杂比从0.75%增至1.5%,膜的载流子浓度、透光率( 波长大于500nm)和光隙能相应增大.在掺杂比为1.5%左右时沉积的膜的电阻率达到最小,其值为7.1×10-4Ωcm,且在可见光区其透光率超过了90%.

关键词: 脉冲激光沉积 , ZnO膜 , 掺杂比

氟化非晶碳膜的光学带隙和伏安特性

黄峰 , 康健 , 杨慎东 , 叶超 , 程珊华 , 宁兆元 , 甘肇强

功能材料

用苯(C6H6)和三氟甲烷(CHF3)混合气体作源气体,采用永磁微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(MWECRCVD)技术,制备了氟化非晶碳膜(a-C:F).光学带隙的结果表明它与膜中的C、F元素含量和键结构都有关系;伏安特性的测量表明a-C:F薄膜的电导在低电场下呈欧姆特性,高电场下则是肖特基发射机制.

关键词: a-C:F薄膜 , MWECR-CVD , 光学带隙 , J-V特性

微波ECR-CVD法制备a-C:F:H膜的红外吸收及其光学带隙

甘肇强 , 陆新华

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2002.02.004

改变CHF3/CH4流量比R=[CHF3]/([CHF3]+[CH4]),采用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(MWECR-CVD)方法沉积a-C:F:H薄膜.a-C:F:H薄膜的结构和光学带隙使用傅立叶变换红外光谱和紫外-可见光谱来表征.红外结果表明,在低流量比R(R<64%)下,薄膜的红外特征结构主要以-CF(1060cm-1),-CF2(1120cm-1)以及-CHx(2800~3000cm-1)的伸缩振动为主;在高流量比R(R>64%)下,薄膜表现为类聚四氟乙烯(PTFE)的结构特征,典型的红外特征峰是位于1220cm-1处的-CF2反对称伸缩振动.薄膜的光学带隙Eg随流量比R的变化表现为先降后升.进一步研究表明,薄膜中的H和F浓度调制着薄膜的 C==C共轭双键结构,使光学带隙Eg从2.37到3.3之间变化.

关键词: a-C:F:H薄膜 , 傅立叶变换红外光谱 , 紫外可见光谱

溶胶-凝胶法制备钛酸锶铅薄膜和多层膜及其介电性质

王季魁 , 沈明荣 , 方亮 , 甘肇强

功能材料

采用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了多种不同组分的(Pb1-xSrx)TiO3(PST)(x=0.45、0.50、0.55、0.60、0.65)均匀薄膜和多层膜,并研究了它们的介电性质.发现均匀薄膜在x=0.55(PST55)时有最大的介电常数,10kHz下为879,损耗为0.029.在与均匀薄膜相同的条件下分别制备了PST45/PST55,PST50/PST60,PST55/PST65 3种多层膜.发现PST50/PST60多层膜的介电常数得到了明显的增强,在频率为10kHz时相对于同厚度的PST55均匀薄膜从879增加到1008,而损耗依然保持较低(0.027).研究同时表明,PST多层膜在电容-电压可调谐性和介电击穿等性质方面也较均匀薄膜有不同程度提高.与其它两种多层膜比较后发现,在PST50/PST60多层膜中处于PST55左右组分的界面层对介电性质有比较大的影响.

关键词: 溶胶-凝胶法 , 钛酸锶铅 , 多层膜 , 介电性质

Pb1-xLaxTiO3薄膜的制备及介电特性研究

朱卫东 , 郑分刚 , 沈明荣 , 甘肇强 , 葛水兵

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2000.03.021

用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si(100)基底上制备Pb1-xLaxTiO3(PLT,x<0.2)薄膜,研究薄膜的结构及其介电、铁电性能.在600℃下退火1小时的PLT薄膜表现出单一的钙钛矿结构,(100)择优取向明显.在室温下PLT薄膜有典型的电滞回线.在x<0.2(摩尔比)的范围内,PLT薄膜相对介电常数则随着La的增加而增加.

关键词: 溶胶-凝胶 , PLT薄膜

双离子束溅射法制备铁氮薄膜

甘肇强 , 诸葛兰剑 , 吴雪梅 , 姚伟国 , 罗经国

功能材料

使用双离子束溅射法制得了铁氮薄膜,随着基片温度的变化,薄膜的成分是ε-Fe2~3N、γ-Fe4N或是二相的混合物,薄膜的晶粒尺寸随基片温度的升高而增大.以振动样品磁强计(VSM)测定了薄膜的磁性能.另外,研究了在基片温度为160℃时,改变主源中通入N2/Ar的比例对薄膜成分的影响.

关键词: 双离子束 , 铁氮薄膜 , 磁性能

微波功率对a-C:F薄膜结构和光学性质的影响

黄峰 , 程珊华 , 宁兆元 , 杨慎东 , 叶超 , 甘肇强

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2001.04.008

用苯(C6H6)和四氟甲烷(CF4)混合气体作源气体,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术制备了含氟非晶碳膜(a-C:F).着重讨论了输入的微波功率对成膜结构和性质的影响.我们对沉积的膜作了膜厚、扫描电子显微表面形貌(SEM)、紫外-可见光透射谱(UV-VIS)、傅立叶红外变换(FTIR)等的测量.结果表明随着微波功率的增加沉积速率一直在上升;同时膜中缺陷增多;从FIIR的结果我们发现膜中主要以C-F、CF2和F-芳基成键;通过UV-VIS吸收谱的测量的结果我们求出了折射率和光学带隙;并且将光学带隙和膜中的sp2碳浓度建立关系.

关键词: 微波ECR-CVD , a-C:F膜 , 微波功率

Pb1-xLaxTiO3薄膜的制备及特性研究

郑分刚 , 朱卫东 , 沈明荣 , 甘肇强 , 葛水兵

功能材料

用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si(100)基底上制备Pb1-xLaxTiO3(PLT,x≤0.2)薄膜,研究薄膜的结构及其介电、铁电性能.在600℃下退火1h的PLT薄膜表现出单一的钙钛矿结构,(100)择优取向明显.在室温下PLT薄膜有典型的电滞回线.在x≤0.2(摩尔比)的范围内,PLT薄膜的矫顽场、剩余极化强度都随着La的增加而降低,相对介电常数则随着La的增加而增加.

关键词: 溶胶-凝胶 , PLT薄膜 , 研究

钛酸镧铅薄膜的介电、铁电性能研究

甘肇强

功能材料

采用溶胶-凝胶法在Si衬底上制备了钛酸镧铅薄膜.通过对膜进行XRD、SEM、介电和铁电性能测试,研究了退火条件和掺镧量对薄膜性能的影响,结果发现在600℃下退火1h的PLT薄膜呈现钙钛矿结构;常温下,薄膜的矫顽场和剩余极化强度都随着掺镧量的增加而降低,其介电常数和介质损耗却随掺镧量的增加而增大.

关键词: 铁电薄膜 , 钛酸镧铅 , 溶胶-凝胶法

脉冲激光沉积Ba0.5Sr0.5TiO3、Pb0.5Ba0.5TiO3和Pb0.5Sr0.5TiO3薄膜及其介电性质

徐华 , 沈明荣 , 方亮 , 甘肇强

功能材料

采用脉冲激光沉积法,在Pt/Ti/SiO2/Si基底上分别制备厚度为350nm的Ba0.5Sr0.5TiO3(BST)、Pb0.5Ba0.5TiO3 (PBT)和Pb0.5Sr0.5TiO3 (PST)薄膜并研究了它们的介电性质.XRD显示,在相同的制备条件下三者具有不同的择优取向,PST具有(110)择优取向,PBT具有(111)择优取向,而BST则是混合取向.SEM显示三者样品表面均匀致密,颗粒尺寸大约在50nm至150nm之间.PST与BST、PBT相比有更高的介电常数,在频率为10kHz时,分别为874、334和355,而损耗都较低,分别为0.0378、0.0316和0.0423,同时PST漏电流也是最小的.测量薄膜的C-V特性和铁电性能表明室温下BST呈现的是顺电相,PST和PBT则呈铁电相.本文也测量了薄膜在不同频率下的介电温度特性,BST、PBT和PST均表现出频率弥散现象,即随着频率的降低,居里温度降低而介电常数会升高.并测得BST和PST的居里温度分别为-75和150℃,而PBT的居里温度在250℃以上.本文研究表明:与BST相比较,PBT的介电常数与之相近,漏电流较大;而PST具有高介电常数,较小的漏电流和较大的电容-电压调谐度,在相关半导体器件中的应用将有很大的潜力.

关键词: 脉冲激光 , 铁电薄膜 , 介电性质

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