王新
,
刘楠
,
向嵘
,
李野
,
端木庆铎
,
田景全
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20112602.0158
在室温条件下,采用射频磁控溅射的方法在石英衬底上制备了NiO薄膜,深入研究了不同溅射功率对NiO的结构、光学和电学特性的影响.随着溅射功率的升高,NiO薄膜逐渐由非晶态薄膜转变成具有(111)择优取向的晶态薄膜,同时发现NiO薄膜在可见光区透过率较大,而在紫外光区透过率减小;随着溅射功率的升高,薄膜在可见光区域和紫外区域的光学透过率均明显减小,同时禁带宽度也减小,但导电性增强.
关键词:
射频磁控溅射
,
氧化镍
,
结构
,
光学
,
电学
