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磁控溅射制备掺银TiO2薄膜的光催化特性研究

邱成军 , 曹茂盛 , 张辉军 , 刘红梅 , 田风军 , 刘鑫

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2005.10.009

利用交流磁控溅射设备采用金属Ti靶在石英和硅衬底制备掺银TiO2薄膜,并利用SEM,XRD及吸收光谱等方法分析测试TiO2薄膜的性质,探讨了掺银对TiO2薄膜吸收光谱的影响.并通过对甲基橙溶液浓度变化研究了掺银TiO2薄膜光催化特性,分析了掺银对TiO2薄膜增强光催化作用的工作机理,研究结果表明掺银有利于TiO2薄膜对有机物的降解作用.

关键词: 薄膜 , 锐钛矿相 , 射频磁控溅射 , 光催化活性

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