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氧分压对氧化镍薄膜表面形貌和光电性能的影响

刘化然 , 盛英卓 , 宋宇 , 杨伟峰 , 李金荣 , 黄鹏 , 冯博学

功能材料

采用射频溅射法在SnO2衬底上生长了NiOx薄膜,制备的薄膜是非理想化学计量的微晶薄膜.研究了氧分压对NiOx薄膜的溅射速率、表面形貌和光学电学特性的影响.研究结果显示,O2分压在1∶10时,可得到最快的沉积速率;低的氧分压沉积的薄膜表面比较疏松;随着氧含量的增加,方块电阻呈上升趋势,当氧分压达到一定值时,膜电阻又开始下降;随着氧分压的升高,颜色会逐渐加深,透射率降低.

关键词: NiOx , 射频溅射 , 电致变色 , 氧分压

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