林松盛
,
周克崧
,
代明江
,
石倩
,
胡芳
,
侯惠君
,
韦春贝
,
刘建武
材料工程
doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2015.000612
采用多靶位真空阴极电弧沉积技术,在TC11钛合金表面制备24周期的Ti-TiN-Zr-ZrN软硬交替多元多层膜.用扫描电镜、X射线衍射仪、显微硬度计、结合力划痕仪、球-盘摩擦磨损试验仪、砂粒冲刷试验仪和3D表面形貌仪,研究多层膜的表面及截面形貌、相结构、厚度、硬度、膜/基结合力、摩擦磨损性能和抗砂粒冲蚀性能.结果表明:所制备Ti-TiN-Zr-ZrN多层膜厚度约为5.8μm,维氏显微硬度为28.10GPa,膜基结合力为56N;TC11钛合金表面镀多层膜后耐磨性提高了一个数量级,体积磨损率由7.06×10-13m3·N-1·m-1降低到3.03×10-14m3·N-1·m-1;多层膜软硬层交替的结构,受砂粒冲蚀时裂纹扩展至金属软层时应力的缓冲而出现偏转,对TC11钛合金有良好的抗砂粒冲蚀保护作用.
关键词:
Ti-TiN-Zr-ZrN多层膜
,
钛合金
,
冲蚀
,
真空阴极电弧沉积
谢世明
,
代明江
,
林松盛
,
侯惠君
,
石倩
,
邱万奇
,
汪云程
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.01.005
目的 研究工艺参数中的气压、偏压、弧电流对该涂层沉积速率、组织结构、成分的影响.方法 采用电弧离子镀技术,利用正交试验改变气压、偏压、弧电流三种工艺参数,在镍高温合金上制备NiCoCrAlYTa涂层,借助SEM分析涂层的截表面形貌,EDS检测涂层成分,金相显微镜检测涂层的孔隙率,3D轮廓仪测量涂层厚度.结果 弧电流对沉积速率的影响最大,其次为偏压,最小的是气压;偏压对涂层孔隙率的影响最大,其次为气压,最小的是弧电流.随着偏压的增大,涂层由柱状结构转变成层状结构.随着电流增大,涂层表面大颗粒数量先增后减.涂层成分相对靶材成分都发生了离析,涂层中的Ni、Al含量较靶材的下降,Co、Cr含量较靶材的上升,并且随着偏压的增大,成分离析加剧;随着电流的增加,成分离析先加剧后减弱;气压对成分离析的影响不明显.结论 低气压和高电流有利于提高涂层的致密性,并减弱涂层成分的离析,减少涂层中重要元素Al的流失.实验得出的最优工艺为气压0.5 Pa,电流110 A,偏压可根据性能检测进一步优化.
关键词:
电弧离子镀
,
NiCoCrAlYTa涂层
,
工艺参数
,
沉积速率
,
组织结构
,
成分
石倩
,
任建坤
,
王玉萍
,
彭盘英
,
王维安
中国有色金属学报
以钛酸四丁酯、硝酸铋及尿素为前驱体,利用溶剂热法制备氮掺杂BixTiOy-TiO2复合催化剂,利用X射线衍射(XRD)、紫外?可见漫反射(UV-Vis)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、X射线光电子能谱(XPS)和低温氮气吸附(BET)等手段对样品进行表征,以亚甲蓝为模型化合物,考察各催化剂在模拟太阳光下的光催化活性.结果表明:由于一定量的氮掺杂可增强催化剂中Bi12TiO20的含量,氮掺杂的复合催化剂在440~520nm处出现了较大的吸收;氮掺杂使催化剂从圆球形变为花瓣形,增大了催化剂的比表面积和羟基自由基的含量.氮掺杂量为0.15%(质量分数)的BNT2催化剂在250 W金卤灯模拟太阳光下照射3 h后,对20 mg/L的亚甲基蓝溶液的去除率为93.86%,比相同条件下BT和NT催化剂的去除效率分别提高了32%和37.31%.
关键词:
复合半导体
,
溶剂热法
,
氮掺杂
,
光催化活性
,
功能材料
李维思
,
石倩
,
李振江
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2009.02.002
芳香醛与NaHSO3加成得到羟基磺酸盐,加入邻苯二胺或取代邻苯二胺在乙醇中回流反应,空气氧化直接得到2-取代苯并咪唑. 在合成的15个化合物中,产率均超过80%. 其中化合物2-(4-氯苯基)-6-甲氧基-1H-苯并咪唑尚未见报道. 所有产物结构经元素分析、IR、1H NMR分析技术得到确证. 合成方法无需任何催化剂,操作简单,条件温和,环境友好.
关键词:
芳香醛
,
邻苯二胺
,
取代苯并咪唑
,
合成
