易明芳
,
张杰
,
赵玉杰
,
马业万
,
朱德权
,
祝祖送
,
尤建村
,
夏强胜
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2013.05.001
用乙二醇还原硝酸银,成功制备了平均边长约97 nm的银纳米立方体以用于诺丹明(RhB)分子的荧光实验.实验中,将探针分子RhB粉末掺杂于PMMA苯甲醚溶液中,制得不同厚度掺杂有RhB探针分子的PMMA薄膜,运用光谱技术和共焦显微技术研究了银纳米立方体与荧光分子的间隔、银纳米立方体不同浓度分布对RhB分子的荧光强度的影响.荧光光谱表明,荧光强度随PMMA厚度变薄而增强,当PMMA厚度为10 nm时,荧光增强因子最大,获得了56倍的荧光增强效果,而继续减小PMMA厚度时,其荧光增强因子又变小,说明发生了荧光猝灭效应.共焦荧光像则更直观地表现了银纳米立方体的浓度分布对荧光分子辐射增强的影响.因而,可通过调控银纳米立方体与荧光分子的距离及银纳米立方体的分布优化荧光增强因子以用于基于荧光的单分子探测,这一实验结果在生物成像和生物传感领域有潜在应用价值.
关键词:
光谱学
,
增强荧光
,
表面等离子体激元
,
局域场增强
,
银纳米立方体
祝祖送
,
林揆训
,
林璇英
,
邱桂明
功能材料
SiCl4/H2混合气体被公认为低温沉积纳米晶以及多晶硅薄膜最具潜力的气源之一.首次利用加热可调谐Langmuir探针对等离子体增强化学气相沉积系统中的SiCl4/H2放电等离子体的电子浓度和电子平均能量进行了在线检测,并分析了电子特性随系统各参数:气体压强、射频功率及氢稀释度RH的变化规律.实验结果表明:随着气体压强的升高,电子浓度不断增大而电子平均能量不断减小;增大射频功率或减小氢稀释度RH,电子浓度和电子平均能量都相应增大.此外,并对实验结果进行了定性或半定量分析.本研究工作将有助于更好地理解SiCl4/H2放电机理,改善并优化沉积优质多晶硅薄膜的工艺参数.
关键词:
加热Langmuir探针
,
电子特性
,
沉积速率
,
SiCl4/H2等离子体
祝祖送
,
张杰
,
尹训昌
,
易明芳
,
闻军
人工晶体学报
研究了SiCl4浓度对等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中以SiCl4/H2为反应气体的微晶硅薄膜生长及光电特性的影响.结果表明,微晶硅薄膜的沉积速率和晶化率均随SiCl4浓度的增加而增大,而晶粒平均尺寸在SiCl4浓度小于65％时呈增大趋势,在SiCl4浓度大于65％时呈减小趋势;此外,光照实验表明制备的微晶硅薄膜具有较稳定的微观结构,具有类稳恒光电导效应,且样品的电导率依赖于SiCl4浓度的变化.此外,还讨论了Cl基基团在微晶硅薄膜生长过程中所起的作用.
关键词:
微晶硅
,
稳恒光电导效应
,
晶粒
,
等离子体增强化学气相沉积
