程石
,
刘志坚
腐蚀与防护
均匀腐蚀全浸试验是衡量金属腐蚀性能的重要依据,影响其腐蚀速率的因素较多,包括仪器的不确定度和测量重复性等.为了掌握试验数据的准确性,在室温5％硫酸溶液中对热双金属材料特定表面进行了24h均匀腐蚀全浸试验,对其腐蚀速率进行了不确定度评定,结果满意.
关键词:
热双金属材料
,
特定表面
,
均匀腐蚀全浸试验
,
腐蚀速率
,
不确定度
程石
,
王伟旬
,
黄伟嘉
,
刘志坚
,
刘孟刚
,
杜莉
冶金分析
提出了一种用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法直接测定Cr20Ni80镍铬合金溅射靶材中主量元素Cr和次量元素Si、Mn、P、Cu、Fe、Ti、Ce的分析方法.在低温加热下用硝酸-盐酸混合酸(V硝酸∶V盐酸∶V水＝65∶200∶735)溶解试样,选择Si 251.612 nm、Mn 257.611 nm、P 178.287 nm、Cr 284.984 nm、Cu 324.754 nm、Fe 259.941 nm、Ti 334.941 nm 和Ce 418.660 nm的光谱线作为分析线,大量基体元素如镍、铬、钇产生的基体效应影响可以通过基体匹配方法消除,谱线的重叠干扰和非光谱干扰不明显.测定主量元素Cr时,由于检测信号的短时漂移和波动对测定有影响,可以通过加入内标元素Y克服.对4种Cr20Ni80镍铬合金溅射靶材试样中上述8种元素进行测定,结果的相对标准偏差均小于2％,对Cr20Ni80镍铬合金标样中Si、Mn、P、Cr、Cu、Fe、Ti进行测定,测定值与认定值相符.
关键词:
电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)
,
Cr20Ni80
,
镍铬合金
,
溅射靶材
,
主量元素
,
次量元素
杨国波
,
王永茂
,
王向楠
,
程石
,
石天雷
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20112603.0324
研究了小尺寸液晶显示器件ODF(One Drop Fi11ing)工艺中液晶滴下量对漏液晶和低温气泡的影响,确定了液晶滴下量的安全范围.开发了液晶滴下设备与PS高度检测设备联动的新型液晶滴下方法,有效地解决了PS产品在ODF工艺中发生漏液晶和低温气泡的问题.
关键词:
LCD
,
ODF
,
PS
,
漏液晶
,
低温气泡
程石
,
王涛
,
张敏
,
张铁军
,
史华威
,
杨国波
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20112605.0604
研究了隔垫物密度对Push Mura和低温气泡的影响.实验表明,通过增加隔垫物密度,能提高液晶面板的抗压强度,降低Push Mura发生率.但是,隔垫物密度过高会引起低温气泡发生.当隔垫物密度控制在适当范围内时,既能大大改善Push Mura,又不会发生低温气泡,且不影响产品的光学特性.
关键词:
LCD
,
不良改善
,
隔垫物
石天雷
,
杨国波
,
程石
,
杭苗
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20122702.0208
研究了摩擦强度对Zara漏光和摩擦痕Mura的影响.实验表明,当摩擦强度偏低时,Zara漏光易发生,而摩擦强度偏高时,则易引发摩擦痕Mura.通过选择合适的摩擦强度,可降低Zara漏光和摩擦痕Mura的发生率.另外,利用FIB对基板表面进行分析,找到了FFS型产品容易发生Zara漏光和摩擦痕Mura的原因.
关键词:
LCD
,
Zara漏光
,
摩擦痕Mura
