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工艺参数对磁控溅射ZrN膜耐腐蚀性能的影响

孙维连 , 程越 , 王会强 , 李新领 , 孙铂

材料保护

为寻求真空磁控溅射ZrN膜耐蚀性与其溅射工艺间的规律,在1Cr18Ni9Ti不锈钢表面以不同的工艺参数真空磁控溅射了系列ZrN膜。通过中性盐雾试验确定了不同工艺参数所得ZrN膜的耐蚀性等级。结果表明:ZrN膜耐蚀性随N2流量的增加先增加,但超过15mL/min后,膜的耐蚀性反而下降;ZrN膜耐蚀性随反应温度升高而增强;ZrN膜的耐蚀性随反应时间的增加越来越好,但超过15min后,膜的耐蚀性不再增强;以ZrN膜的耐蚀性为依据,最佳溅射工艺参数为N2流量15mL/min,反应时间15min,反应温度200℃。

关键词: 真空磁控溅射 , 工艺参数 , ZrN膜层 , 耐蚀性

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