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二层型挠性覆铜板用聚酰亚胺的研究进展

刁恩晓 , 李帆 , 舒适 , 肖炳瑞 , 黄永发 , 王平 , 刘峰

绝缘材料

电子行业的快速发展对二层型挠性覆铜板的性能提出了更高的要求,针对以聚酰亚胺薄膜为基底材料的二层型挠性覆铜板,分别从改善粘结性能、介电性能和耐热性能3个方面综述了二层型挠性覆铜板的研究进展,并展望了二层型挠性覆铜板的研究方向。

关键词: 聚酰亚胺薄膜 , 二层型挠性覆铜板 , 性能

硅溶胶/聚丙烯酸酯复合乳液的结构和性能研究

王欢 , 吉静 , 舒适 , 熊玉钦

涂料工业 doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2008.01.014

采用普通乳液聚合的方法,制备了硅溶胶/聚丙烯酸酯复合乳液.通过透射电镜(TEM)、傅里叶红外光谱仪(FT-IR)和动态激光散射仪(DLS)等对复合乳液中乳胶粒子的结构进行表征,并对复合乳液的涂膜性能进行研究.结果表明,所制备的复合乳液粒子具有核-壳结构,其中核是纳米级的SiO2粒子,壳是聚丙烯酸酯.性能测试结果表明,核-壳结构的存在使得复合乳液的涂膜在硬度、附着力和化学稳定性等方面均优于纯丙乳液及硅溶胶/聚丙烯酸酯的共混乳液.

关键词: 硅溶胶 , 聚丙烯酸酯 , 乳液聚合 , 核壳结构

表面处理对液晶显示阵列基板中黑矩阵残留的影响

张锋 , 舒适 , 齐永莲 , 刘震

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20153006.0915

主要分析了黑矩阵残留程度与 SiNx、SiON、SiOx 等基底表面亲水特性的关系,研究了等离子体处理对基底表面亲水特性以及黑矩阵残留的影响。首先,通过原子力显微镜和扫描电子显微镜对黑矩阵在不同基底表面的残留颗粒大小、表面粗糙度进行了测试。然后,使用接触角测试仪对不同基底表面的亲水特性进行了表征,分析了表面亲水特性和黑矩阵残留程度的关系。最后,研究了等离子体处理条件对基底表面亲水特性的影响,提出了采用 O2/He 等离子体对基底表面进行改性来解决黑矩阵的残留问题。实验结果表明:基底表面的水接触角越小、亲水性越强,黑矩阵在基底表面的残留越少;O2/He 等离子体表面处理使基底表面的水接触角从17°降低到3°,增强了基底表面的亲水特性,并且黑矩阵工艺之后基底表面的粗糙度从3.06 nm 降低到0.69 nm,消除了黑矩阵的残留。

关键词: 等离子体处理 , 亲水性 , 接触角 , 黑矩阵

硅溶胶存在下的聚丙烯酸酯无皂乳液聚合

舒适 , 吉静 , 王欢

高分子材料科学与工程

采用无皂乳液聚合法合成了粒径分布单一的硅溶胶/聚丙烯酸酯复合乳液.讨论了硅溶胶对无皂乳液聚合成核过程、乳胶粒粒径及其分布、乳液稳定性的影响.结果表明,硅溶胶的加入减小了乳胶粒粒径,并且对乳液有稳定作用.通过透射电镜(TEM)对复合乳胶粒结构进行观察,表明乳胶粒具有两相复合结构.结合实验结果,提出了该体系元机有机两相复合机理,即无皂乳液聚合初期的聚丙烯酸酯初始微粒不稳定,易与硅溶胶粒子聚并.

关键词: 硅溶胶 , 聚丙烯酸酯 , 无皂乳液聚合 , 复合机理

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