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AZO晶种层对ZnO纳米线生长及紫外光电导性能的影响

曹东 , 蒋向东 , 李大伟 , 孙继伟

材料导报

采用溶液化学法实现了在Zn(NO3)2/C6H12N4混合溶液中ZnO纳米线在AZO薄膜修饰过衬底上生长.AZO薄膜由射频磁控溅射法制备,通过溅射时间和基底温度的变化改变薄膜形态,重点研究了不同薄膜形态对ZnO纳米线形貌和结构的影响,最终在溅射2h、基底温度250℃晶种上得到垂直于衬底、高度平行取向的ZnO纳米线阵列.在此基础上研究了不同形貌ZnO纳米线阵列的紫外光电导性能差异.结果表明,垂直生长的纳米线较倒伏纳米线紫外响应迅速,分析认为是紫外光照下曝光面积不同造成的.

关键词: AZO , ZnO纳米线 , 溶液化学法 , 紫外光电导性能

纳米晶化对CoNbZr薄膜结构及阻抗的影响

蒋向东 , 张怀武 , 文歧业 , 张万里 , 唐晓莉

功能材料

采用独特的快速循环纳米晶化技术,对直流磁控溅射制备的非晶CoNbZr软磁膜,进行纳米晶化.研究了在不同的纳米晶化工艺条件下,薄膜的微观结构和阻抗性能.CoNbZr软磁薄膜晶粒细化到30nm,阻抗值从20Ω增加到100Ω(1400MHz),阻抗共振峰向低频移动200MHz左右,极大改善了薄膜的软磁性能.

关键词: 薄膜 , 软磁膜 , 纳米晶化

CoNbZr非晶软磁薄膜晶化动力学研究

蒋向东 , 张怀武 , 文歧业 , 钟智勇 , 杨争 , 唐晓莉

功能材料

采用DSC热分析技术,结合XRD、TEM和AFM实验,对磁控溅射制备的Co85.5Nb8.9Zr5.6非晶合金软磁薄膜进行了变温和等温晶化动力学的研究.研究结果表明:升温晶化时,薄膜的晶化的表观激活能为99.82kJ/mol;局域激活能随晶化度增加;在等温晶化过程中,平均激活能为88.51kJ/mol,Avrami指数1.17~1.39,晶化行为主要是一维表面晶化,晶核长大受扩散控制的过程.

关键词: 晶化动力学 , 纳米晶 , 软磁薄膜

低阈值的聚合物分散液晶膜厚对其电光性能的影响

杨文君 , 刘国柱 , 王继岷 , 蒋向东 , 陈晓西

材料导报

采用聚合物诱导相分离方法制备PDLC膜,主要研究了膜厚对PDLC膜电光特性的影响.结果表明,膜厚对PDLC中液晶微滴的尺寸与形状有很大影响,在一定范围内随着膜厚的增加,液晶微滴变得细小均匀,进而使液晶的阈值电压及饱和电压增加,但同时使液晶的下降时间缩短,有助于提高响应速度.

关键词: 聚合物分散液晶 , 膜厚 , 响应时间 , 电光特性

异质外延ZnO掺Ag薄膜及其异质结紫外光特性的研究

李大伟 , 蒋向东 , 谢康 , 曾东

材料导报

采用射频磁控溅射方法在ITO基片上外延掺Ag的ZnO薄膜,分别用XRD、SEM和紫外可见光分光光度计表征外延薄膜结构、形貌和光学性质.ZnO:Ag/ITO薄膜伏安特性的研究表明,ZnO:Ag与ITO形成异质结.在紫外光波长365nm、负偏压15V情况下异质结暗电流为11.2hA,光电流为198hA,灵敏度(光电流与暗电流之比)为17.7.此异质结的紫外光响应上升时间为700ms,下降时间为1.5s.

关键词: ZnO掺Ag , 射频磁控溅射 , 异质结 , 响应时间

晶须转动及其对SiC_W/Al-Ni复合材料高温压缩变形流变应力的影响

费维栋 , 李超 , 蒋向东 , 董尚利 , 姚忠凯

金属学报

本文测定了SiCW/Al-Ni复合材料高温压缩变形的应力-应变曲线,讨论了该种复合材料高温压缩变形时所表现出的应变软化现象,利用SEM观察了SiCW/Al-Ni复合材料在高温压缩变形中晶须的转动,并对晶须长轴的取向分布函数及其与复合材料压缩流变应力之间的关系进行了较为详细的研究.研究结果表明,在压缩变形过程中,SiCW晶须的长轴要发生转动,并趋向垂直于压缩方向分布,晶须取向的重新分布是造成复合材料应变软化的主要原因.

关键词: SiC晶须 , aluminium metrix composite , high temperature compression , strain softening

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