吴春
,
刘祥萱
,
蒋大勇
,
梁剑涛
,
吴友朋
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.02.011
利用化学镀铜工艺,以次亚磷酸钠为还原剂,在普通平板玻璃表面制备了金属铜薄膜.用扫描电子显微镜,X射线衍射仪,四探针电阻仪,红外光谱辐射计等对薄膜的表面形貌、晶体结构和光电特性进行了表征,重点研究了金属铜膜的红外发射率与波长以及电阻率的变化关系,并与经典的Hagen-Rubens关系式进行了对比.结果表明:铜膜的发射率随波长的增大而降低,在特定的波段,发射率随电阻率的升高而增大.
关键词:
铜薄膜
,
化学镀
,
电阻率
,
红外发射率
