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三维Ni亚微米柱阵列的制备及微结构研究

陈昶 , 张伟 , 陈建 , 刘春海 , 曾宪光 , 杨瑞嵩 , 王龙 , 蒲国

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.04.025

利用磁控溅射法在阳极氧化铝(AAO)模板上制备了 Ni 亚微米柱阵列,研究了不同退火温度对 Ni 亚微米柱阵列结构稳定性的影响。通过原子力显微镜(AFM)、X 射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等对不同退火温度下制备的Ni亚微米柱阵列的晶体结构以及表面形貌进行了表征。结果表明,磁控溅射法制备的Ni亚微米柱阵列具有多晶的面心立方结构,排列规则、粗细均匀,其直径约为400 nm。经400℃退火后,开始形成Al1.1 Ni0.9和AlNi金属间化合物。500℃退火后,出现空心Ni亚微米柱,且Ni亚微米柱体积膨胀变粗。600℃退火后,Ni亚微米柱部分脱落。

关键词: AAO 模板 , 磁控溅射 , Ni亚微米柱阵列 , 晶体结构 , 表面形貌

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