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铜离子印迹聚合物膜的制备及其渗透性能

ZHONG Shi-An , 袁周率 , LI Wei , 乔蓉 , TANG Chao-Fu

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2008.08.027

采用分子印迹技术紫外光引发聚合方法制备了带支撑膜的铜离子印迹聚合膜.用扫描电子显微镜观察了膜的表面形态.膜渗透实验结果表明,通过对不同阳离子(如锌离子、钙离子等)的比较,此印迹膜对铜离子有较好的选择渗透性.分别考察了不同支撑膜、致孔剂和功能单体对膜结构及其渗透性能的影响,考察了pH值、阴离子及阳离子对膜渗透性能的的影响.结果表明,采用PVDF膜为支撑膜,乙酸铜为印迹离子合成的铜离子印迹膜,在pH值为1左右,阴离子为乙酸根离子时,对铜离子有较好的选择渗透性.

关键词: 分子印迹技术 , 印迹膜 , 膜渗透 , 铜离子

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