李惠琴
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陈晓勇
,
王成
,
穆继亮
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许卓
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杨杰
,
丑修建
,
薛晨阳
,
刘俊
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.02.012
原子层沉积( ALD)是一种新型的精确表层薄膜制备技术,具有沉积面积大、薄膜均匀、膜厚纳米级可控生长、低温性等特点,适用于纳米多孔和高深宽比基底材料,可应用于三维微纳结构器件的功能薄膜材料制备,广受国内外学术界和工业界的关注。综述了ALD技术发展历史和技术原理,介绍了ALD技术在微纳器件中的应用进展,涉及半导体微纳集成电路、微纳光学器件、微纳米生物医药等高新技术领域,对ALD技术当前存在的问题进行了分析,并展望了未来发展方向。
关键词:
原子层沉积
,
薄膜技术
,
高深宽比结构
,
纳米多孔结构
,
微纳结构器件
李宏伟
,
孙天生
,
许卓
钛工业进展
doi:10.3969/j.issn.1009-9964.2005.01.013
本实验仔细研究泥浆的物理特性,用化整为零的静态沉降方法,产生不含不溶物的优质粗四氯化钛,满足下一道工序的需要.本方法能随时将不溶物清除,防止了不溶物进入系统循环.有效地利用本方法,可以避免泥浆给生产带来的诸多不利.
关键词:
粗四氯化钛
,
泥浆
,
静置沉降
,
优质