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先进光刻胶材料的研究进展

许箭 , 陈力 , 田凯军 , 胡睿 , 李沙瑜 , 王双青 , 杨国强

影像科学与光化学

本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的研究进展进行了综述,特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍,以期对我国先进光刻胶的研发工作有所帮助.

关键词: 光刻胶 , 193 nm光刻 , EUV光刻 , 化学放大光刻胶 , 分子玻璃