谈国强
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博海洋
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苗鸿雁
,
夏傲
,
贺中亮
人工晶体学报
以Bi(NO_3)_3·5H_2O和Fe(NO_3)_3·9H_2O为原料,冰醋酸做溶剂,柠檬酸为络合剂,采用共沉淀法制备前驱物,对前驱物沉淀进行退火处理,制备出BiFeO_3纳米粉体.研究了煅烧温度和冰醋酸的加入量对BiFeO_3纳米粉体的晶粒尺寸及形貌的影响.采用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)对所制备的BiFeO_3纳米粉体进行表征,用EDS确定了样品的表面成分组成.结果表明:退火温度为450 ℃时出现BiFeO_3衍射峰,但存在杂相;退火温度为600 ℃时制备出了BiFeO_3纯相粉体,粉体为立方体结构.冰醋酸加入量由1 mL增大到1.8 mL时,粉体的晶粒尺寸由14.21 nm减小到11.65 nm.通过EDS能谱分析得出BiFeO_3粉体由Bi,Fe和O 三种元素组成.
关键词:
BiFeO_3粉体
,
铁磁电材料
,
共沉淀法
刘剑
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苗鸿雁
,
谈国强
,
贺中亮
材料科学与工程学报
采用自组装单层膜技术在玻璃基板上成功制备了钛酸锶薄膜,利用接触角仪对前期处理后的基片润湿角进行表征,利用X射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM)等手段表征了薄膜的物相和微观结构.实验结果表明:采用自组装单层膜技术制备的钛酸锶薄膜结晶良好,样品表面均匀,颗粒尺寸大约在300nm～500nm之间.
关键词:
自组装单层膜
,
钛酸锶
,
薄膜
贺中亮
,
谈国强
,
苗鸿雁
,
刘剑
材料导报
利用自组装单层膜技术,在玻璃基板上生长有机硅烷单分子膜层,以Hf(SO4)2·4H2O和HCl配制HfO2前驱液,通过液相沉积在硅烷的功能性官能团上诱导生成二氧化铪薄膜.通过接触角测试仪、AFM、SEM及XRD等手段对膜材料的表面形貌和结构进行了研究分析.结果表明,利用自组装单层法成功制备出立方型的HfO2晶态薄膜,薄膜表面均一.
关键词:
薄膜
,
自组装单层膜
,
HfO2
贺中亮
,
谈国强
,
苗鸿雁
,
刘剑
,
夏傲
,
梁东
稀有金属材料与工程
以Hf(SO_4)_2·4H_2O和HCl配制HfO_2前驱液,利用自组装单层膜技术,在OTS自组装单层膜的功能性基团表面制备晶态二氧化铪薄膜.研究了HfO_2前驱液的浓度,退火温度和有机硅烷单分子层等对HfO_2薄膜制备的影响.通过接触角测量仪,XRD和SEM等表征手段,对薄膜表面形貌、微观结构、物相组成进行分析.结果表明:基板在OTS溶液中浸泡为20 min时,有机层表面接触角最大为(110±2)°.利用自组装单层法成功制备出HfO_2晶态薄膜,HfO_2呈立方型,无其他杂相.膜层表面致密均一,生长良好.
关键词:
自组装单层膜法
,
HfO_2
,
薄膜
谈国强
,
贺中亮
,
苗鸿雁
,
刘剑
,
夏傲
稀有金属材料与工程
以硫酸铪和盐酸为原料,采用液相自组装技术,以十八烷基三氯硅烷(OTS)为模板制各了二氧化铪晶态薄膜.通过表面接触角测试仪观察有机层表面接触角变化,探讨了前驱液pH值.薄膜沉积温度和煅烧温度对HfO2薄膜的影响.通过XRD、SEM等测试手段对HfO2薄膜的物相组成、显微结构和表面形貌进行了表征,结果表明:利用自组装技术在500℃热处理后成功制备出了立方相HfO2晶态薄膜,当沉积温度为70～80℃,HCl浓度为0.3 mol/L时,HfO2薄膜表面均匀致密,生长良好.
关键词:
OTS-SAMs
,
HfO2
,
薄膜
谈国强
,
博海洋
,
苗鸿雁
,
夏傲
,
贺中亮
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00083
利用自组装单层膜技术, 以三氯十八烷基硅烷（OTS）为模板, 以硝酸铋和硝酸铁为原料, 柠檬酸为络合剂, 在玻璃基片上制备了铁酸铋晶态薄膜. 探讨了薄膜的煅烧温度和沉积温度对BiFeO3薄膜的影响. 通过X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）及原子力显微镜（AFM）测试手段对BiFeO3薄膜的物相组成、显微结构和表面形貌进行了表征, EDS能谱测试为铁酸铋薄膜的化学组成提供了有力的证据. 结果表明：利用自组装技术在600℃热处理后成功制备出了纯净的BiFeO3晶态薄膜, 当沉积温度为70～80℃时铁酸铋薄膜结晶良好, 样品表面均匀、致密.
关键词:
OTS-SAMs
,
BiFeO3
,
thin film
谈国强
,
博海洋
,
苗鸿雁
,
夏傲
,
贺中亮
功能材料
结合光刻印技术和HfO2液相自组装沉积成膜技术,在单晶硅表面成功地制备了具有微米级图案结构的HfO2薄膜,该硅基图案化HfO2微结构近来在工业界特别是微电子领域引起极度的关注.X射线衍射(XRD)与扫描电镜(SEM)显示,在图案区域成功制备了HfO2薄膜,EDS能谱测试显示了图案区域的HfO2薄膜的化学组成.
关键词:
微图案
,
光刻印
,
HfO2微结构
谈国强
,
刘剑
,
苗鸿雁
,
贺中亮
,
夏傲
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2009.00749
以(NH4)2TiF6、 Ba(NO3)2 和H3BO3为主要原料, 采用自组装单层膜(SAMs)技术, 以三氯十八烷基硅烷(octadecyl-trichloro-silane, OTS)为模版, 在玻璃基片上制备了四方相钛酸钡晶态薄膜. 改性基板的亲水性测定与原子力显微镜（AFM）测试表明, 紫外光照射使基板由疏水转变为亲水, 能够对OTS-SAM起到修饰作用. 金相显微镜观察结果显示，OTS单分子膜指导沉积的薄膜样品表面均匀, 表明OTSSAM对钛酸钡薄膜的沉积具有诱导作用; X射线衍射（XRD）与扫描电镜（SEM）表征显示, 空气中600℃下保温2h实现了薄膜由非晶态向四方相BaTiO3晶态薄膜的转化过程, 制备的钛酸钡薄膜在基板表面呈纳米线状生长, 线长约在500～1000nm之间, 相互连接的晶粒大小约为100nm. 文章同时对自组装单层膜和钛酸钡薄膜的形成机理进行了探讨.
关键词:
自组装单层膜
,
BaTiO3
,
thin film
,
formation mechanism
贺中亮
,
苗鸿雁
,
谈国强
,
刘剑
,
夏傲
,
娄晶晶
功能材料
利用自组装单层膜技术,在玻璃基板上生长十八烷基三氯硅烷(OTS)单分子膜层,以Hf(SO4)2·4H2O和HCl配制HfO2前驱液,通过液相沉积在硅烷的功能性官能团上诱导生成二氧化铪薄膜.研究了紫外光照射对OTS单分子层的影响,通过接触角测试仪、AFM、SEM及XRD等手段对膜材料的表面形貌和结构进行了研究分析.结果表明,利用自组装单层法成功制备出HfO2晶态薄膜,呈立方型的HfO2,无其它杂相,薄膜表面均一.
关键词:
薄膜
,
自组装单层膜
,
HfO2
谈国强
,
博海洋
,
苗鸿雁
,
夏傲
,
贺中亮
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00083
利用自组装单层膜技术,以三氯十八烷基硅烷(OTS)为模板,以硝酸铋和硝酸铁为原料,柠檬酸为络合剂,在玻璃基片上制备了铁酸铋晶态薄膜.探讨了薄膜的煅烧温度和沉积温度对BiFeO3薄膜的影响.通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)及原子力显微镜(AFM)测试手段对BiFeO3薄膜的物相组成、显微结构和表面形貌进行了表征,EDS能谱测试为铁酸铋薄膜的化学组成提供了有力的证据.结果表明:利用自组装技术在600℃热处理后成功制备出了纯净的BiFeO3晶态薄膜,当沉积温度为70～80℃时铁酸铋薄膜结晶良好,样品表面均匀、致密.
关键词:
OTS-SAMs
,
铁酸铋
,
薄膜
