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赵夕 , 徐强 , 丁飞 , 刘兴江
电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2010.10.001
通过循环伏安法和恒电位阶跃暂态法,研究硫酸铜-硫酸溶液中铜在石墨基体上的电沉积行为,并利用扫描电子显微镜观察石墨基体表面金属铜沉积颗粒的形态和分布.结果表明:在较正的电位区间内,铜的沉积遵从连续成核机理;而在较负的电位区间内,铜的沉积遵从瞬时成核机理.
关键词: 石墨基体 , 铜 , 电沉积 , 成核机理
