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低熔封接玻璃的研究进展

郭宏伟 , 刘新年 , 赵彦钊 , 高档妮

材料导报

低熔封接玻璃是一种先进的焊接材料,由于其具有低的熔化温度和封接温度,优良的机械强度和化学稳定性,而在很多领域中得到广泛的应用,实现了玻璃、陶瓷、金属、半导体间的相互封接.综述了低熔封接玻璃的研究现状,展望了低熔封接玻璃向无铅化发展的趋势,指出了无铅低熔封接玻璃今后的研究方向.

关键词: 低熔封接玻璃 , 焊接材料 , 填料 , 无铅化 , 磷酸盐

LiF作为电子注入层对OLEDs器件性能的影响

李志贤 , 张方辉 , 赵彦钊 , 王秀峰

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2008.01.012

制造了两种OLEDs器件,它们的结构分别为:ITO/NPB(50 nm)/Alq3(65 nm)/Mg:Ag(10:1)(100 nm)/Ag(50 nm)and ITO/NPB(50 nm)/Alq3(65 nm)/LiF(x)/Al(100 nm).结果发现,在同样电压下,与Mg:Ag/Ag电极相比,插入LiF层可以明显提高器件的电流.当LiF厚度为1 nm时,器件性能最好.以Mg:Ag/Ag合金作为电极时的器件的最大亮度为8 450 cd/m2,而插入LiF层的器件最大亮度可达到14 700 cd/m2.此外,器件的发光效率也得到了明显的提高,在7 V时达到了最大为3.117 cd/mA.同时,当LiF厚度大于1 nm或小于1 nm时,器件性能都将会下降.

关键词: OLEDs , LiF厚度 , 电子注入层

利用导电性测试检测PLED器件功能层的稳定性

张方辉 , 李志贤 , 赵彦钊 , 张麦丽 , 丁兴隆

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2008.02.017

在25℃、相对湿度50％的条件下,分别在玻璃上旋涂了PEDOT:PSS,MEH-PPV薄膜,蒸镀了Al薄膜,研究了它们在空气中的导电性能,试验结果表明,PEDOT:PSS需100 s,吸水过程就基本完成,电阻变化率约为66.5％;MEH-PPV薄膜需13.6 min吸收水、氧的过程基本完成,电阻变化率为245.5％;Al薄膜仅需50 s,和空气中的水、氧的反应已基本完成,其电阻变化率为24.9％,在较短时间内,它们的电阻就发生了迅速的变化.其原因为它们吸收了空气中的水蒸气或者与空气中的水、氧气等发生反应,使其电性能发生了变化.由此得出结论,在PLED器件的功能层制备过程中或者在器件的封装过程中,防止空气中的水、氧气对器件的侵蚀是非常重要的.

关键词: 电阻率 , 稳定性 , PEDOT:PSS , MEH-PPV

头孢拉定/蒙脱石插层化合物的制备

赵彦钊 , 郭文姬 , 王兰

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00655

采用医药级蒙脱石和钠基蒙脱石作载体材料, 通过溶液插层法制备了头孢拉定/蒙脱石插层化合物. 采用紫外分光光度法定量计算其载药量, 采用X射线衍射和傅立叶红外光谱测试定性分析其结构, 研究其层间结构变化情况. 结果表明, 头孢拉定与蒙脱石发生插层反应主要是由于离子交换作用, 简单的物理混合不能使二者发生插层反应. 钠化后的医药级蒙脱石有较好的离子交换特性, 易于发生插层反应. 医药级蒙脱石和头孢拉定在水中进行插层反应后, 蒙脱石的层间距减小; 而钠基蒙脱石和医药级蒙脱石钠化改性后制备的插层化合物层间距均增大.

关键词: 蒙脱石; 头孢拉定; 离子交换性; 溶液插层法

薄膜Se对薄膜Al电极的防护作用探讨

李志贤 , 赵彦钊 , 张方辉

硅酸盐通报

本文在25 ℃、相对湿度50%的条件下,分别蒸镀了Al,Al/Se薄膜,研究了它们在空气中的导电性能,试验结果表明,只需50 s, Al薄膜的氧化反应已基本完成,其电阻率变化率为24.9%;大约需要2 min,Al/Se薄膜电阻变化率为4.5%,随后其电阻基本处于稳定状态.这主要是因为薄膜边沿和镀Se薄膜时形成的针孔的铝膜首先被氧化,使电阻增加.形成的Al2O3薄膜阻止了反应的继续进行,电阻不再变化.

关键词: 电阻变化率 , 稳定性 , Al薄膜 , Al/Se薄膜

头孢拉定/蒙脱石插层化合物的制备

赵彦钊 , 郭文姬 , 王兰

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00655

采用医药级蒙脱石和钠基蒙脱石作载体材料,通过溶液插层法制备了头孢拉定/蒙脱石插层化合物.采用紫外分光光度法定量计算其载药量,采用X射线衍射和傅立叶红外光谱测试定性分析其结构,研究其层间结构变化情况.结果表明,头孢拉定与蒙脱石发生插层反应主要是由于离子交换作用,简单的物理混合不能使二者发生插层反应.钠化后的医药级蒙脱石有较好的离子交换特性,易于发生插层反应.医药级蒙脱石和头孢拉定在水中进行插层反应后,蒙脱石的层间距减小；而钠基蒙脱石和医药级蒙脱石钠化改性后制备的插层化合物层间距均增大.

关键词: 蒙脱石 , 头孢拉定 , 离子交换性 , 溶液插层法

不同有机离子表面活性剂改性蒙脱土结构与性能比较

赵彦钊 , 张亚莉 , 王兰

应用化学 doi:10.3724/SP.J.1095.2013.30053

分别用阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、阴离子表面活性剂十二烷基磺酸钠(SDS)以及二者混合物(CTAB-SDS)的水溶液处理天然蒙脱土.用红外光谱和X射线衍射比较了它们对蒙脱土结构的影响.证明CTAB及CTAB-SDS处理蒙脱土的层间距分别由1.5420 nm增大至2.1946和1.8935 nm.表明CTAB插入蒙脱土层间,且CTAB及CTAB-SDS处理蒙脱土在苯乙烯中分散性能明显提高,对有机物表现出良好的吸附性;而阴离子表面活性剂未进入蒙脱土层间,蒙脱土的结构和性能几乎未变.

关键词: 蒙脱土 , 有机改性 , 表面活性剂

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