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磁控溅射技术制备硅纳米晶多层膜及微观结构表征

赵志明 , 马二云 , 张晓静 , 田亚萍 , 屈直 , 百穹 , 曹智睿 , 白力静 , 张国君 , 蒋百灵

功能材料

摘要:在室温下,分别利用常规磁控溅射和反应磁控溅射技术交替沉积Si薄膜和Si1-xNx薄膜在单晶硅基体上制备了Si/Si1-xNx纳米多层膜。接下来,在高温下对Si/Si1-xNx多层膜进行退火诱发各层中形成硅纳米晶。研究了Si1-xNx层厚度和N2流量沉积对si/Si1-xNx多层膜中Si量子点形成的影响。TEM检测结果表明,N2流量为2.5mL/min时沉积的多层膜退火后形成了尺寸为20-30nm的等轴Si3N4纳米晶;N2流量为5.0mL/min时沉积的多层膜退火后在Si层和Si1-xNx层中均形成了硅纳米晶,而在7.5mL/min N2流量下沉积的Si/Si1-xNx多层膜退火后仅在Si层中形成了硅纳米晶。

关键词: 磁控溅射技术 , Si/Si1-xNx多层膜 , Si纳米晶 , Si3N4纳米晶 , TEM

反应磁控溅射制备AZO薄膜相结构的演化及机理研究

赵志明 , 丁宇 , 田亚萍 , 张晓静 , 马二云 , 白力静 , 蒋百灵

人工晶体学报

在室温下,利用直流反应磁控溅射技术在不同的氧气流量下沉积ZnO∶ Al (AZO)薄膜.采用XRD、SEM和TEM技术分析薄膜相成分、表面截面形貌及微观结构.结果表明:氧气流量为2.5 sccm时,沉积形成的薄膜为不透明具有金属导电性能的AZO/Zn( AZO)双层复合膜结构;氧气流量为3.5 sccm时,沉积形成了透明导电的AZO薄膜;氧气流量为5.0 sccm时,形成了透明不导电且含有纳米Al2O3颗粒的AZO薄膜;此外,AZO薄膜在400℃退火后,薄膜晶粒长大和(002)晶面方向择优生长更加明显以及高氧气流量沉积的AZO薄膜中的纳米Al2O3颗粒消失.

关键词: 直流反应磁控溅射 , AZO薄膜 , Al2 O3纳米颗粒

CIGS薄膜太阳能电池用Mo背电极的制备与结构性能研究

赵志明 , 丁宇 , 曹智睿 , 田亚萍 , 屈直 , 张国君 , 蒋百灵

材料导报

利用磁控溅射技术在Sode-lime玻璃衬底上沉积CIGS薄膜太阳能电池用金属Mo背电极薄膜,并研究了Mo靶功率、基片脉冲宽度以及预清洗时间对Mo薄膜的相结构、形貌及电阻率的影响.结果表明,沉积的Mo薄膜均沿(110)晶面呈柱状择优生长;增大Mo靶溅射功率可以促进薄膜晶粒长大、提高薄膜的致密性、降低电阻率;合适的基片脉冲电压脉宽促进了晶核的形成、长大并有助于沉积过程中Mo晶粒长大,进而降低薄膜电阻率;通过延长预清洗时间可获得致密性好、电阻率低的Mo薄膜,所获得的Mo薄膜最低电阻率为3.5×10-5Ω·cm.

关键词: Mo薄膜 , 磁控溅射 , XRD , SEM

磁控溅射Co/AZO纳米复合薄膜的结构及光学性能

赵志明 , 张晓静 , 马二云 , 白力静 , 张国君 , 游才印 , 蒋百灵

稀有金属材料与工程

利用对靶磁控溅射交替沉积技术在不同Co靶电流下沉积Co/AZO纳米复合薄膜,并对其进行真空退火.研究了Co靶电流对薄膜的结构及光学性能的影响.结果表明,沉积态薄膜晶化程度随Co靶电流增加而降低,未发现Co的相关衍射峰;真空退火后,薄膜结晶性明显改善,0.3 A薄膜中出现了Co纳米颗粒,当Co靶电流增大到0.5A时还发现了CoO纳米颗粒.UV-Vis光谱显示薄膜透过率随Co靶电流增加而降低,退火后透过率明显提高;光谱中还出现了高自旋态Co2+(d7)电子跃迁的3个特征吸收峰,0.2A薄膜中尤其显著.

关键词: Co/AZO纳米复合薄膜 , 微观结构 , 光学性能 , 交替沉积 , 磁控溅射

磁控溅射制备NiO/Ni多层膜的结构和光电性能

赵志明 , 马二云 , 张晓静 , 张国君 , 游才印 , 白力静 , 蒋百灵

稀有金属材料与工程

利用反应磁控溅射和常规磁控溅射方法交替沉积了NiO/Ni纳米多层膜,研究了不同退火环境下多层膜的相结构、微观结构演化及光电性能.XRD和TEM结果表明,沉积态薄膜呈现明显的NiO和Ni交替多层结构;大气退火的NiO/Ni多层膜被氧化成沿(ll1)晶面择优生长的NiO薄膜;而真空退火的NiO/Ni薄膜仍然保持着明显的多层结构,各层膜的结晶程度提高.沉积态和真空退火态的NiO/Ni多层膜呈现低可见光透过率和低电阻率的特点,电阻率达到10-5Q·cm数量级;大气退火的NiO/Ni多层膜呈现49.3%可见光平均透过率和高的电阻特性.

关键词: NiO/Ni纳米多层膜 , 微观结构 , 光电性能 , 磁控溅射

NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜的磁导率和巨磁阻抗比的研究

孙智勇 , 赵志明 , 董刚 , 季勇 , 郑鹉 , 王艾玲 , 姜宏伟

金属功能材料

用磁控溅射方法制备NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜;理论研究了多层膜巨磁阻抗效应与磁导率的关系;实验研究了NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜结构的磁导率和巨磁阻抗比.在驱动频率3MHz下△μ′/μ′(%)出现800%的最大值,巨磁阻抗比出现14.4%的最大值.

关键词: 巨磁阻抗 , 磁导率 , 多层膜

离子注入/辐照引起Al2 O3单晶的改性研究

宋银 , 张崇宏 , 王志光 , 赵志明 , 姚存峰 , 周丽宏 , 金运范

原子核物理评论 doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2006.02.026

600 K温度下用110 keV的He+, Ne+, Ar+离子注入及320 K温度下用230 MeV的208Pb27+辐照Al2O3单晶样品, 研究了离子注入和辐照对Al2O3单晶样品结构和光学特性的影响.从测得的光致发光谱可以清楚地看到, 所有样品在波长为375, 413和450 nm处出现了强的发光峰, 且所有5×1016 ion/cm2注入样品的发光峰均最强.经过高能Pb辐照后的样品, 在390 nm处出现了新的发光峰.透射电镜分析发现在注入氖样品100 nm入射深度以内形成了高浓度的小空洞(1-2 nm), 在Ne沉积区域有少量大空洞形成.傅立叶变换红外光谱分析发现, 波数在460-510 cm-1间的振动吸收带经过离子辐照后展宽, 随着辐照量的增大, 该振动吸收强度显著减弱.1 000-1 300 cm-1对应Al-O-Al桥氧伸缩振动模式的吸收带, 辐照后向高波数方向移动.对离子注入和辐照对Al2O3单晶样品结构损伤机理进行了初步探讨.

关键词: 离子注入 , 重离子辐照 , Al2O3 , 光致发光谱 , 透射电镜分析 , 红外光谱

磁控溅射(TiO2-ZnO)/TiO2梯度复合薄膜的制备及光致亲水性研究

寇钢 , 白力静 , 龚振瑶 , 赵志明

人工晶体学报

采用磁控溅射离子镀设备制备了(TiO2-ZnO)/TiO2梯度复合薄膜,通过TEM、AFM、Raman、XPS分析了复合薄膜的结构、形貌和表面羟基含量,以甲基橙作为有机降解物,研究了( TiO2 -ZnO )/TiO2梯度复合薄膜与普通TiO2-ZnO复合薄膜和TiO2薄膜在光催化性能和光致亲水性能上的差异.结果表明:(TiO2 -ZnO )/TiO2梯度复合薄膜具有以主体为TiO2 -ZnO层、顶层为TiO2的梯度结构,且薄膜表面致密、粒径均匀(10~14nm),光催化性和亲水性均优于普通TiO2 -ZnO复合薄膜和TiO2薄膜,且其光波响应范围红移至450nm、表面羟基含量高达12.53%,同时梯度复合薄膜的抗光腐蚀性能良好,4h以后其润湿角仍保持不变.

关键词: 磁控溅射 , (TiO2 -ZnO)/TiO2 , 梯度 , 光致亲水性

不同S值磁控阴极溅射沉积Mo薄膜的结构与性能研究

赵志明 , 张晓静 , 马二云 , 曹智睿 , 白力静 , 蒋百灵

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2012.03.014

在室温下,利用不同磁感应强度相对分布因子S的磁控阴极溅射沉积了金属Mo薄膜.实验研究了磁控阴极S值对放电参数、Mo薄膜的结构、形貌及性能的影响.分别利用XRD,SEM和四探针技术对Mo薄膜的相结构、表面和截面形貌及电阻率进行表征分析.结果表明,随着磁控阴极S值的增加,Mo靶放电电压降低,而放电电流增加;不同S值的磁控阴极沉积的Mo薄膜均呈现多晶结构,且具有柱状生长特征;随着磁控阴极S因子的增加Mo膜的厚度和电导率呈现先增加而后减小的变化规律,电阻率最小可达4.9×10-6Ω·cm.

关键词: 磁感应强度分布因子 , Mo薄膜 , 磁控溅射 , 电阻率

Co/C与Co-Pt/C膜的微结构研究

孙智勇 , 赵志明 , 王宝纯 , 姜宏伟 , 王艾玲 , 郑鹉

金属功能材料

利用磁控溅射方法制备Co/C和Co-Pt/C薄膜.用X射线衍射谱(XRD)和透射电子显微镜(TEM)测量样品结构和微观形貌.对Co/C和Co-Pt/C晶粒的大小进行计算,表明Co/C颗粒膜Co是以团簇的形式镶嵌在C层中的,面心立方(fcc)COPt3和面心四方(fct)Copt两个稳定有序相在Co-Pt/C薄膜中很好地藕合.

关键词: 磁记录 , 磁控溅射 , 薄膜

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