赵泽钢
,
赵剑
,
马向阳
,
杨德仁
材料科学与工程学报
doi:10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2016.03.001
对比研究了轻掺硼(1.5×1016 cm-3)和重掺硼(1.2×1020 cm-3)直拉硅片上维氏压痕周围的残余应力分布及压痕位错在900℃滑移的情况.研究表明:重掺硼直拉硅片上压痕周围的残余应力及应力场区域显著小于轻掺硼硅片的.在900℃热处理时,轻掺硼硅片上的压痕位错发生显著的滑移,而重掺硼硅片上的压痕位错几乎不发生滑移.一方面,重掺硼降低了单晶硅的压痕断裂韧性,使侧向裂纹尺寸增大而释放更多的应力,从而使压痕的残余应力变小;另一方面,重掺硼对位错具有明显的钉扎作用,使位错的滑移需要更大的应力驱动.可以认为正是上述两方面的效应使得重掺硼硅片的压痕位错几乎不发生滑移.
关键词:
单晶硅片
,
重掺硼
,
位错滑移
